1200度25管式爐

產品簡介：

1200度25管式爐是一種廣泛應用于科研、工業(yè)生產和材料加工領域的高溫加熱設備，其核心結構為水平或垂直布置的爐管，通過電阻絲、硅碳棒或硅鉬棒等加熱元件對爐管內部進行均勻加熱。該設備以高溫控制精度高、溫度均勻性好、操作靈活等優(yōu)勢，成為材料熱處理、化學合成、半導體制造等工藝的關鍵設備。

主要特點：

1.高溫均勻性
通過優(yōu)化爐管結構和加熱元件布局，爐內溫度均勻性可達±5℃（1200℃時），確保樣品受熱一致。

2.快速升降溫
最高升溫速率可達20℃/min，降溫速率通過風冷或水冷系統(tǒng)控制，縮短實驗周期。

3.安全防護
具備超溫報警、漏電保護、斷偶保護等功能，部分型號支持遠程監(jiān)控與故障診斷。

應用領域

1.材料科學研究

高溫燒結：陶瓷、金屬粉末的致密化處理。

熱處理：金屬材料的退火、淬火、回火，改善力學性能。

催化劑制備：通過控溫程序實現催化劑載體的負載與活化。

2.化學與能源領域

化學氣相沉積（CVD）：制備碳納米管、石墨烯等納米材料。

電池材料研究：鋰離子電池正負極材料的合成與改性。

高溫分解：生物質、廢棄物的熱解制氫或制油。

3.半導體與電子工業(yè)

晶體生長：硅、砷化鎵等單晶材料的提拉法生長。

薄膜沉積：通過CVD或物理氣相沉積（PVD）制備半導體薄膜。

器件退火：修復離子注入損傷，激活摻雜元素。

選型指南

1.溫度需求

中溫型（≤1200℃）：適用于金屬熱處理、陶瓷燒結。

高溫型（1200℃-1600℃）：用于難熔金屬、碳化物材料的合成。

超高溫型（≥1600℃）：滿足半導體單晶生長、超硬材料制備需求。

2.爐管材質

石英爐管：透明可視，適用于需要觀察反應過程的實驗。

剛玉爐管：耐高溫、耐腐蝕，性價比高。

金屬爐管：適用于高壓、高溫或腐蝕性氣氛。

3.氣氛控制

開放系統(tǒng)：僅通入惰性氣體，適用于一般熱處理。

密閉系統(tǒng)：支持真空、高壓或混合氣氛，滿足CVD、PVD等工藝需求。

操作與維護

1.操作流程

樣品放置：將樣品置于剛玉舟或石英舟中，推入爐管恒溫區(qū)。

氣氛設置：根據實驗需求通入氣體，調節(jié)流量與壓力。

程序設定：輸入目標溫度、保溫時間及升降溫速率。

實驗結束：待爐溫降至100℃以下后取出樣品，關閉氣體與電源。

2.日常維護

定期清潔爐管內壁，避免雜質污染樣品。

檢查加熱元件老化情況，及時更換損壞的電阻絲或硅碳棒。

校驗熱電偶與溫控儀，確保溫度測量準確性。