
Model 212 紫外掩膜曝光機
Model212 大面積掩模對準器是一款高性價比的高性能掩模對準器,其采用了 OAI 經行業驗證的組件,正是這些組件使 OAI 在光刻設備行業處于地位。212 型是一款臺式掩模對準器,所需潔凈室空間極小,為大面積基板、液晶顯示器(LCD)、薄膜晶體管、面板級封裝和有機發光二極管(OLED)的研發提供了經濟實惠的選擇。借助 OAI 創新的真空吸盤調平系統,大面積基板(最大可達 12 英寸 ×12 英寸或 300 毫米 ×300 毫米)能快速、輕柔地實現調平,確保在曝光過程中光刻掩模的精準對準和均勻接觸。該系統可實現 1 微米的分辨率和對準精度。對準模塊配備了掩模插入組和快換式晶圓吸盤,無需專用工具即可便捷使用多種基板和掩模。212 型大面積掩模對準器配備了經過驗證的 OAI 紫外線光源,使用功率范圍為 200 至 2000 瓦的燈,可提供近紫外、中紫外或深紫外的準直紫外光。雙傳感器光學反饋回路與恒定強度控制器相連,將曝光強度控制在所需強度的 ±2% 以內。
可處理的基板尺寸最大為 12 英寸 ×12 英寸或 300 毫米 ×300 毫米
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特點
占地面積小
價格實惠
精密對準
紫外光具有高準直性和均勻性
可輕松適配多種大面積基板和掩模

