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RZJ-304 光刻膠

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。










冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發

供貨周期 現貨 應用領域 化工,綜合

RZJ-304 光刻膠是由蘇州瑞紅生產的正性光刻膠,以下是其詳細介紹:
成分
主要由丙二醇甲醚醋酸酯、甲酚 - 甲醛酚醛樹脂(CAS-NO.9016-83-5,濃度 21%)、6 - 重氮 - 5,6 - 二氫 - 5 - 氧代 - 1 - 萘磺酸與 2,3,4 - 三羥基二苯甲酮的酯化物(CAS-NO.68510-93-0,濃度 6%)等成分組成.
性能特點
光刻精度較高:能夠實現較為精細的光刻圖案,線條寬度和間距可以達到較小的尺寸,適用于對光刻精度要求較高的微納加工工藝,如集成電路制造、微機電系統(MEMS)加工等領域.
分辨率良好:具備較好的分辨率,能夠清晰地將掩模版上的圖形轉移到基底上,對于復雜的圖形結構也能夠較好地呈現,有助于制造出具有高精度和高性能的微納器件.
工藝適應性強:可以適應多種光刻工藝條件,如不同的曝光能量、顯影時間等。在一定的工藝參數范圍內,都能夠獲得穩定可靠的光刻效果,這使得它在不同的生產環境和工藝要求下都具有較好的應用靈活性.
與基底結合力較好:與常見的半導體基底材料,如硅片等,具有良好的粘附性,能夠牢固地附著在基底表面,在光刻過程中不易出現光刻膠脫落或剝離的現象,從而保證了光刻圖案的完整性和準確性。
技術參數
粘度:有 25mpa?s 和 50mpa?s 兩種規格可選.
配用顯影液:RZX-3038.
推薦工藝條件
涂布:溫度 23℃,采用旋轉涂布的方式,可獲得 1.0~3.5μm 的膜厚。
前烘:在熱板上 100℃條件下烘烤 90 秒。
曝光:曝光能量為 50~75mj/cm2。
顯影:在 23℃下,使用 RZX-3038 顯影液,顯影時間 1 分鐘,可采用噴淋或浸漬的方式。
清洗:用去離子水清洗 30 秒。
后烘:在熱板上 120℃條件下烘烤 120 秒 。



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