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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>工藝測量和檢測設備>關鍵尺寸測量設備>WD4000 無圖晶圓粗糙度測量系統

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WD4000 無圖晶圓粗糙度測量系統

參考價 3000000
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱 深圳市中圖儀器股份有限公司
  • 品牌 CHOTEST/中圖儀器
  • 型號 WD4000
  • 產地 學苑大道1001號南山智園B1棟2樓、5樓
  • 廠商性質 生產廠家
  • 更新時間 2025/4/8 17:30:11
  • 訪問次數 802

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深圳市中圖儀器股份有限公司成立于2005年,致力于全尺寸鏈精密測量儀器及設備的研發、生產和銷售。


中圖儀器堅持以技術創新為發展基礎,擁有一支集光、機、電、信息技術于一體的技術團隊,歷經20年的技術積累和發展實踐,研發出了基礎計量儀器、常規尺寸光學測量儀器、微觀尺寸光學測量儀器、大尺寸光學測量儀器、常規尺寸接觸式測量儀器、微觀尺寸接觸式測量儀器、行業應用檢測設備等全尺寸鏈精密儀器及設備,能為客戶提供從納米到百米的精密測量解決方案。





三坐標測量機,影像儀,閃測儀,一鍵式測量儀,激光干涉儀,白光干涉儀,光學輪廓儀,激光跟蹤儀

中圖儀器WD4000無圖晶圓粗糙度測量系統提供幾何輪廓分析、粗糙度分析、結構分析、頻率分析、功能分析等五大分析功能。其中粗糙度分析包括國際標準ISO4287 的線粗糙度、ISO25178 面粗糙度、ISO12781 平整度等全參數。


無圖晶圓粗糙度測量系統

厚度測量模塊:厚度、TTV(總體厚度變化) 、LTV、BOW、WARP、TIR、SORI、平面度、等;

顯微形貌測量模塊:粗糙度、平整度、微觀幾何輪廓、面積、體積等。


產品優勢

1、非接觸厚度、三維維納形貌一體測量

集成厚度測量模組和三維形貌、粗糙度測量模組,使用一臺機器便可完成厚度、TTV、LTV、BOW、WARP、粗糙度、及三維形貌的測量。

2、高精度厚度測量技術

(1)采用高分辨率光譜共焦對射技術對Wafer進行高效掃描。

(2)搭配多自由度的靜電放電涂層真空吸盤,晶圓規格可支持至12寸。

(3)采用Mapping跟隨技術,可編程包含多點、線、面的自動測量。

3、高精度三維形貌測量技術

(1)采用光學白光干涉技術、精密Z向掃描模塊和高精度3D重建算法,Z向分辨率高可到0.1nm;

(2)隔振設計降低地面振動和空氣聲波振動噪聲,獲得高測量重復性。

(3)機器視覺技術檢測圖像Mark點,虛擬夾具擺正樣品,可對多點形貌進行自動化連續測量。

4、大行程高速龍門結構平臺

(1)大行程龍門結構(400x400x75mm),移動速度500mm/s。

(2)高精度花崗巖基座和橫梁,整體結構穩定、可靠。

(3)關鍵運動機構采用高精度直線導軌導引、AC伺服直驅電機驅動,搭配分辨率0.1μm的光柵系統,保證設備的高精度、高效率。

5、操作簡單、輕松無憂

(1)集成XYZ三個方向位移調整功能的操縱手柄,可快速完成載物臺平移、Z向聚焦等測量前準工作。

(2)具備雙重防撞設計,避免誤操作導致的物鏡與待測物因碰撞而發生的損壞情況。

(3)具備電動物鏡切換功能,讓觀察變得快速和簡單。

無圖晶圓粗糙度測量系統


WD4000無圖晶圓粗糙度測量系統通過非接觸測量,將晶圓的三維形貌進行重建,強大的測量分析軟件穩定計算晶圓厚度,TTV,BOW、WARP、在高效測量測同時有效防止晶圓產生劃痕缺陷。可實現砷化鎵、氮化鎵、磷化鎵、鍺、磷化銦、鈮酸鋰、藍寶石、硅、碳化硅、玻璃不同材質晶圓的量測。


應用領域

可廣泛應用于襯底制造、晶圓制造、及封裝工藝檢測、3C電子玻璃屏及其精密配件、光學加工、顯示面板、MEMS器件等超精密加工行業。可測各類包括從光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物體表面,從納米到微米級別工件的厚度、粗糙度、平整度、微觀幾何輪廓、曲率等,


應用案例

無圖晶圓粗糙度測量系統


部分技術規格

品牌CHOTEST中圖儀器
型號WD4000系列
測量參數厚度、TTV(總體厚度變化)、BOW、WARP、LTV、粗糙度等
可測材料砷化鎵、氮化鎵、磷化鎵、鍺、磷化銦、 鈮酸鋰、藍寶石、硅、碳化硅、氮化鎵、玻璃、外延材料等
厚度和翹曲度測量系統
可測材料砷化鎵 ;氮化鎵 ;磷化 鎵;鍺;磷化銦;鈮酸鋰;藍寶石;硅 ;碳化硅 ;玻璃等
測量范圍150μm~2000μm
掃描方式Fullmap面掃、米字、自由多點
測量參數厚度、TTV(總體厚度變 化)、LTV、BOW、WARP、平面度、線粗糙度
三維顯微形貌測量系統
測量原理白光干涉
干涉物鏡10X(2.5X、5X、20X、50X,可選多個)
可測樣品反射率0.05%~100
粗糙度RMS重復性0.005nm
測量參數顯微形貌 、線/面粗糙度、空間頻率等三大類300余種參數
膜厚測量系統
測量范圍90um(n= 1.5)
景深1200um
最小可測厚度0.4um
紅外干涉測量系統
光源SLED
測量范圍37-1850um
晶圓尺寸4"、6"、8"、12"
晶圓載臺防靜電鏤空真空吸盤載臺
X/Y/Z工作臺行程400mm/400mm/75mm

請注意:因市場發展和產品開發的需要,本產品資料中有關內容可能會根據實際情況隨時更新或修改,恕不另行通知,不便之處敬請諒解。



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