Plasma Etching Cluster 多腔等離子體刻蝕系統
具體成交價以合同協議為準
- 公司名稱 研啟科學儀器(東莞)有限公司
- 品牌
- 型號
- 產地
- 廠商性質 代理商
- 更新時間 2024/10/22 15:55:16
- 訪問次數 222
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l 方案是適用于 8 吋晶圓的多腔等離子體刻蝕工藝系統
l 系統可用于研發和小批量生產
l 系統兼容 8 吋、6 吋、4 吋、3 吋晶圓和不規則碎片;不同尺寸樣片之間的切換、無需反應腔的開腔破真空
l 系統包括:
一個六端口的轉接腔、帶機械手。
六個端口分別連接:
(1)一個ICP-RIE 刻蝕腔模塊:專用于刻蝕鈮酸鋰
(2)一個ICP-RIE 刻蝕腔模塊:配氟基氣體,主要用于刻蝕介質、光刻膠去等
(3)一個 RIE 刻蝕腔模塊:配氯基氣體,主要用于刻蝕金屬等
(4)一個 loadlock 預真空室模塊:用于單片樣品的手動送樣
(5)一個真空片盒站模塊:用于多片片盒的自動送樣
(6)一個端口備用,未來可升級增加 1 個刻蝕或沉積反應腔模塊