| 產地類別 | 進口 | 價格區間 | 10萬-20萬 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 化工,能源,電子/電池,汽車及零部件,綜合 |
非接觸式白光干涉薄膜厚度測量系統膜厚儀
產品優勢勢：
1）光學薄膜測量解決方案
2）非接觸、非破壞測量
3） 覆蓋單層到多層薄膜
4） 核心算法覆蓋薄膜到厚膜
5） 配置靈活、支持定制化
廣泛應用于各種光學元件上的介電涂層、涂層光學濾光片、晶圓上的半導體制造、液晶設備、多層聚合物膜。
例如薄膜層： SiO 2、CaF 2、MgF 2、光刻膠、多晶硅、非晶硅、SiNx、TiO 2、溶膠-凝膠、聚酰亞胺、聚合物膜。
例如基板材料：硅、鍺、砷化鎵、硫化鋅、硒化鋅、丙烯酸、藍寶石、玻璃、聚碳酸酯、聚合物、石英。
規格
測量范圍 | 20 nm 至 50 µm（僅厚度）、100 nm 至 10 µm（厚度 w/ n 和 k） |
可測量層數 | 最多 4 層 |
光斑尺寸 | 可調節 0.8 毫米至 4 毫米 |
樣本大小 | 1 毫米以上 |
厚度精度 | ± 1 nm 或 ±0.5% 中的較大者 |
精確 | 0.2 納米 |
重復性 | 0.1 納米 |
平臺尺寸 | 7 英寸 x 7 英寸或 178 毫米 x 178 毫米 |
系統尺寸 | 8 英寸寬，9 1/2 英寸深，14 英寸高 |
配置
· 一臺薄膜測量主機（110V-240V AC），包括一個鹵素鎢光源和一個帶有USB接口的基于PC的光學迷你光譜儀。
· 光束傳輸、投影和接收光纖電纜和光學組件
· 全新 Span 薄膜測量軟件 5.2 版
· 一個硅晶片作為反射率標準
· 配套硬件
· PC 要求：>800 MHz 時鐘、RAM 1 GB、Windows Vista、7、8 或 Windows 10。
問答：
Q1：什么樣的樣品是不可測量的？
A1：如果薄膜樣品表面是擴散性的，則會違背干涉儀的反射率測量，樣品無法測量。例如，沒有明顯值和最小值的反射率曲線是不可測量的。
Q2：薄膜測量系統可以測量涂層金屬膜嗎？
A2：涂層金屬膜具有高反射性。干涉儀測量需要來自頂部金屬膜表面和內表面的光反射信號，以建立用于測量的光譜反射率曲線。如果金屬膜太厚，則內表面反射信號太弱。這將使金屬膜厚度無法測量。然而，如果金屬膜是部分透明的，允許內層反射，那么金屬膜是可測量的。
Q3：如果我需要測量一張沒有已知材料N和K值的膠片，該怎么辦？
A3：基板和薄膜材料N和K的測量可以通過薄膜測量系統進行。由于光束垂直入射到樣品上，測量精度不如使用橢圓偏振儀進行的測量精度高。由于增加了角度測量（附加變量），材料N和K的橢偏儀測量更準確。另一方面，N和K的薄膜測量對許多用戶來說相當準確。
如果用戶的應用程序要求高精度的N和K值，我們建議將特定樣本發送到橢偏儀測量。然后使用測量的N和K，使用該薄膜測量系統進行未來的厚度測量。
光源和光譜儀的單獨使用
非接觸式白光干涉薄膜厚度測量系統膜厚儀薄膜測量機內部有一個鹵鎢光源（360-2400nm）和一個基于PC的USB微型光譜儀（350-1000nm）；每個都具有位于主機背面的SMA 905連接器。TF-168的后面板如下圖所示。通過斷開主系統光學頭的光纖，光源和光譜儀可以用于其他應用。
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