AD-230LP 等離子體沉積ALD

具體成交價以合同協議為準

產品標簽

SAMCO 等離子體沉積等離子體沉積ALD AD-230LP

在線交流發送詢價進入商鋪同類產品

聯系方式：謝澤雨19842703026 查看聯系方式

聯系我們時請說明是化工儀器網上看到的信息，謝謝!

公司介紹 主營產品

深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項，軟件著作權 14 項，是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。

展開

冷熱臺，快速退火爐，光刻機，納米壓印、磁控濺射，電子束蒸發

價格區間	面議	應用領域	電子/電池,綜合

1. 產品概述

AD-230LP是一種原子層沉積（ALD）系統，能夠在原子水平上控制薄膜厚度。有機金屬原料和氧化劑交替供給反應室，僅通過表面反應進行薄膜沉積。該系統具有負載鎖定室，且不向大氣開放反應室，因此能夠實現薄膜沉積的優良再現性。

2. 設備用途/原理

氮化膜（AlN、SiN）的形成和低溫形成的氧化膜（AlOx、SiO2）。電子設備的閘門絕緣子。半導體、有機EL等的鈍化膜。半導體激光器的反射面。在MEMS等3D結構上的沉積。石墨烯上的沉積。碳納米管保護膜粉末涂層。

3. 設備特點

可以在原子層水平上實現均勻的層控制。可實現高縱橫比結構的共形沉積。具有優良的平面內均勻性和再現性，實現了穩定的工藝。采用反應室結構，優化了原料的氣路和氣體流，抑制了粒子。通過采用電容耦合等離子體(CCP)系統，使反應室體積小化，縮短了氣體吹掃時間，加快了一個循環的速度。