日本techvision光掩膜清洗裝置用于半導(dǎo)體等 TWC-302 特點(diǎn)介紹

光掩模的清潔化是提高產(chǎn)品成品率的必要條件！

本發(fā)明公開了一種光掩模，該光掩模是通過在玻璃等上形成用于半導(dǎo)體制造工藝的圖案而獲得的，

該光掩模的表面上附著有細(xì)小的灰塵等，該光掩模是通過在玻璃等上形成用于半導(dǎo)體制造工藝的圖案而獲得的。

需要優(yōu)良的清潔技術(shù)，因?yàn)檎掣降幕覊m和污物影響圖案轉(zhuǎn)移，并在很大程度上影響產(chǎn)量。本裝置是藥液兼用的掩模清洗裝置。

附著在掩模上的抗蝕劑分為通常工藝附著的輕度污染、測試用途和長時間未清洗保管的使用履歷不清楚的掩模等所看到的頑固污染兩種。

通過使用適合污染程度的藥液,可以節(jié)約時間、勞力、經(jīng)費(fèi),提高清洗效率。

日本techvision光掩膜清洗裝置用于半導(dǎo)體等 TWC-302 規(guī)格參數(shù)

1用一臺設(shè)備快速完成工件的擦洗，漂洗和干燥。 

2用擦洗清洗專用刷子，不劃傷工件，可以進(jìn)行精密清洗，沒有清洗不均勻。 

3因?yàn)槭橇⑹教幚恚栽O(shè)計時不會給工件帶來壓力。 

4小批量，多品種，適用于研發(fā)應(yīng)用的基板清洗。 

5干燥，熱純水干燥。 

用途

光掩模:半導(dǎo)體，液晶，有機(jī)EL，彩色濾光片，薄膜器件，IC封裝，PWB，PCB，F(xiàn)PC等，板狀基板等可清洗。