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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>光刻及涂膠顯影設備>無掩模光刻機/直寫光刻機>Nikon S206D 掃描式光刻機

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Nikon S206D 掃描式光刻機

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。










冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發

一、產品概述:

Nikon S206D 掃描式光刻機是一款高效的半導體制造設備,專為 200mm 晶圓的生產而設計。該機型采用先進的掃描光刻技術,能夠實現高分辨率和高精度的圖案轉移,廣泛應用于集成電路、微處理器和存儲器等電子元件的制造。憑借其快速的曝光速度和良好的穩定性,S206D 適合大批量生產,同時友好的操作界面和自動化功能降低了操作難度,提升了用戶體驗。這使得 Nikon S206D 成為現代半導體制造過程中重要工具,滿足行業對高質量和高效率的需求。

二、設備用途/原理:

該設備通過高強度光源將掩模上的圖案投影到涂有光刻膠的晶圓表面。光源發出特定波長的光線,經過高分辨率光學系統,將掩模圖案精確掃描并投影到晶圓上。曝光后,光刻膠的化學性質發生變化,隨后進行顯影,去除未曝光或已曝光的光刻膠,從而形成所需的圖案。接著,采用刻蝕工藝將圖案轉移到晶圓材料上,最后去除殘留的光刻膠。這一系列步驟使得 Nikon S206D 能夠高效地實現復雜圖形的精確轉移,滿足現代半導體制造的高標準要求。

三、主要技術指標

分辨率

0.12µm

N.A.

0.82

曝光光源

248nm

倍率

4:1

大曝光現場

25mm*33mm

對準精度

20nm

四、設備特點

Nikon S206D掃描式光刻機

光源波長248nm

分辨率優于0.12µm

主要用于8寸及12寸生產線

廣泛應用于化合物半導體、MEMS、LED等





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