原位紅外反應系統，原位紅外電化學ATR系統，原位紅外漫反射系統，原位紅外透射系統，產品詳情可登錄“合肥原位科技有限公司”網站。

　　原位紅外電化學ATR系統：

　　原位紅外電化學ATR可以獲得電極表面吸附物種的取向、排列、覆蓋等狀態信息，是從分子水平研究電極過程的一種有效手段，其中衰減全反射模式的表面增強光譜，由于表面選律簡單、表面信號強、傳質容易以及受本體溶液干擾小的優點，特別適合實時檢測電極表面動態過程。該原位反應系統引入了三電極和氣體接口，可以在施加外偏壓的條件下，向溶液中通入CO2、N2等反應氣體，實現光（電）催化原位紅外光譜表征。在此基礎上，通過在單晶硅表面蒸鍍（或濺射等）金層，引入表面等離子共振波，實現表面增強效應，增強該原位表征的信號。

　　原位紅外漫反射系統：

　　原位紅外反應系統是利用傅里葉變換紅外光譜儀對催化劑或物料在多環境下的性能進行原位評價的設備。可方便地跟蹤鑒定反應中間態和產物，從而為催化反應體系反應機理的考察給出直接的證據。原位紅外漫反射主要用于氣固相催化的表征和催化反應的研究，如催化劑表面羥基的鑒別、催化劑表面物種吸附態研究、催化劑表面酸堿性的表征。該反應系統可應用于真空到高壓環境，溫度高達500°C（真空下），是研究多相催化、氣固相互作用、光化學反應和氧化機理等方向的理想選擇。目前已應用于光催化降解氣相有機物、熱催化（CO+H2、CO2+H2）等領域的氣固界面反應的紅外光譜研究。

　　產品參數：

　　池體主要采用316L不銹鋼材質，Z高耐溫500℃，耐壓3Mpa；/  哈氏合金材質，Z高耐溫800℃，耐腐蝕；

　　反應池可以配備高精度觸摸屏溫控儀進行精確控溫和加熱，同時利用冷卻循環裝置對反應池外部進行降溫；

　　反應池腔帽有三個窗口，其中兩個為紅外窗口，另一個為石英窗口，用于引入外部光源（光催化激發光源）或作為觀察窗口使用；

　　提供三個入口/出口，用于抽空池體和引入氣體,可在反應池中形成VOCs、CO2等反應氣,反應尾氣先通入安全瓶再經特定溶液吸收后排至室外,各路氣體均通過質量流量計來控制流量,反應氣路操作界面方便友好，易于操作；

　　可定制各類光學窗口，可選配高溫拉曼池蓋。

　　原位紅外透射系統：

　　原位紅外透射池反應系統主要用于研究樣品在不同溫度和氣體環境下的紅外光譜特征。產品主要由反應池、混氣控制系統及溫度控制系統三部分構成。其中反應池主體采用316L不銹鋼材質，并配備紅外窗片，混氣控制系統通過質量流量計精確控制各路氣體流量并實現混合，溫度控制系統通過各類傳感器實現對氣路、混氣罐及反應池溫度的控制。

　　產品參數

　　高清800*480分辨率的真彩觸屏流量控制,操作簡單,使用方便;

　　本產品擁有三段加熱及四路溫度顯示,實時了解各位置溫度,控溫精度土0.1C;

　　標準提供2~4 路配氣氣路，氣路數量可定制;

　　反應池Z高可耐溫300°C;

　　反應池主體采用雙層夾套設計以保證實驗的保溫及安全。