截止到2008年1月，ABM公司在世界范圍售出了500多臺光刻機，50多臺單獨曝光系統。客戶包括美國NSA和INTEL、哈佛大學、LG、菲利普、惠普、3M等，ABM在中國各地也擁有不同領域的客戶，包括眾多的工廠、大學和研究所等。

主要配置：

6“，8”光源系統
可支持2“，3”，4“，6”，8“（圓/方片）及碎片光刻
手動系統，半自動系統
支持電源350-2000 Watt
支持深紫外近紫外波長（可選項）
 支持背后對準及MEMS工藝要求
 CCD或顯微鏡對準系統


主要性能指標：
 光強均勻性Beam Uniformity:：
--<±1% over 2” 區域
--<±2% over 4” 區域
    --<±3% over 6” 區域
 接觸式樣曝光特征尺寸CD(近紫外NUV）：0.5 um
 接觸式樣曝光特征尺寸CD（深紫外DUV）：0.35 um
 支持接近式曝光，特征尺寸CD：
--0.8um 硬接觸
--1um 20um 間距時
--2um 50um 間距時
 正面對準精度 ± 0.5um
 背面對準精度±1um--±2um（Depends on user）
 支持正膠、負膠及Su8膠等的厚膠光刻，特征尺寸：100um-300um
 支持LED優異電流控制技術PSS工藝光刻
 支持真空、接近式、接觸式曝光
 支持恒定光強或恒定功率模式