Osiris勻膠機
用于處理單晶圓的系統，具有用于半導體和微系統技術的定制基板加工選項。
旋涂機 - CCP
設計用于以下應用：
帶蓋卡盤處理器 （CCP） 的旋轉涂層
1.UNIXX S760+
（21x21 英寸）獨立系統
用于大型基材的旋涂機。
2.UNIXX SA30+
（?300毫米）獨立系統
帶蓋卡盤旋涂機。（單底座）
3. UNIXX SHp22+
（直徑200mm）獨立系統
有蓋卡盤旋涂機和加熱板模塊。
旋涂機 - 開式轉鼓
設計用于以下應用：
帶開口碗的旋轉涂層，用于標準涂層。
1.UNIXX SA30
（?300毫米）獨立系統
開式轉鼓旋涂布機。（單底座）
2. UNIXX SHe22
（直徑200mm）獨立系統
開碗旋涂機和加熱板模塊。
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