●公司致力于電真空、核級裝備、人工晶體材料及薄膜制備設備的技術提升，在服務領域深耕細作，具有較深的技術沉積。

●成都真空設備廠家 surpass大口徑等離子刻蝕機 半導體刻蝕 離子束刻蝕 反應離子刻蝕 可定制

●本設備主要用于半導體刻蝕，能夠兼容離子束刻蝕和反應離子刻蝕功能，使用氣態(tài)化學刻蝕劑與材料產生反應來進行刻蝕，并形成可從襯底上移除的揮發(fā)性副產品，通過真空系統(tǒng)排出，特別適合刻蝕熔融石英、硅、光刻膠、聚酷亞胺( PI) 薄膜、金屬等材料。

●說明：根據用戶要求，公司愿與客戶聯(lián)合研發(fā)，共享知識產權，公司致力于工藝與設備***匹配。