平臺遮光罩大多數光學實驗或工業生產都對系統穩定性有較高的要求。各種因素造成的振動會導致儀器測量結果的不穩定性和不準確性，嚴重干擾生產和實驗的進行，振動來源主要分為來自系統之外的振動和系統內部的振動，地面固有振動，工作人員踩踏地板以及開、關門或墻壁碰撞等通過地面傳來的振動均屬系統之外的振動，這一類振動需通過光學平臺的隔振支架衰減；而來自系統內部的振動包括儀器振動、氣流、冷卻水流等，則需依靠光學平臺的桌面阻尼來隔絕。

  隨著光學加工設備和測量儀器精度的不斷提高， 其對工作環境的振動隔離提出了更加嚴苛的要求。例如，離子激光器泵浦噴流染料激光器時，激光器的振動要求達到了微米級；由于可見光波長約為0.5微米，即使振動在次微米級別時，以光的干涉為基礎的實驗（如全息攝影） 也將無法進行； LμmArray 公司的并行激光直寫設備的直寫頭振動線位移不能超過15nm ;超精密機械加工的表面粗糙度要求已經達到 0.1nm  ;高精度掃面探針顯微鏡的雙向分辨率都已達到亞納米級。因此，對光學加工設備及光學測量儀器進行有效的隔振是保證科研生產活動正常進行的必要條件。

同時，對于大型精密光學儀器來說，其除了有近乎嚴苛的隔振要求外，儀器本身往往還具有較大的體積和質量，這對作為隔振基礎的光學隔振平臺的承載能力和工作空間也提出了更進一步的要求。因此，隔振性能好、承載能力強、工作空間大的大型或超大型精密光學隔振平臺具有了較大的市場需求。

創譜儀器自主研發生產的光學隔振平臺廣泛的應用于精密科研光學試驗、加工及測量中，是您理想的選擇。

平臺遮光罩雜散光會給探測器和實驗帶來不利的影響。對于高增益探測系統，由于信號在房間自然光情況下極易飽和，遮光材料尤其有益。在橢圓光度法和某些偏振測量技術中，背景光的調制信號對于精密測量有不利影響，遮光材料是消除這種影響的理想材料。

創譜遮光罩提供了一個不透光的操作空間，可以在里面進行圖像測量、感光操作或者其它需要黑暗空間的光學測量、光路搭建。