無掩膜數(shù)字光刻機 MCML-120A
- 公司名稱 筱曉（上海）光子技術有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時間 2024/12/5 8:10:38
- 訪問次數(shù) 2299
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公司簡介
筱曉(上海)光子技術有限公司成立于2014年，是一家被上海市評為高新技術企業(yè)和擁有“上海市專精特新企業(yè)稱號”的專業(yè)光學服務公司，業(yè)務涵蓋設備代理以及項目合作研發(fā)，公司位于大虹橋商務板塊，擁有接近2000m²的辦公區(qū)域，建有500平優(yōu)良的AOL(Advanced Optical Labs)光學實驗室，為國內(nèi)外客戶提供專業(yè)技術支持服務。公司主要經(jīng)營光學元件、激光光學測試設備、以及光學系統(tǒng)集成業(yè)務。十年來，依托專業(yè)、強大的技術支持，以及良好的商務支持團隊，筱曉的業(yè)務范圍逐年增長。目前業(yè)務覆蓋國內(nèi)外各有名高校、*科研機構及相關領域等諸多企事業(yè)單位。筱曉擁有一支核心的管理團隊以及專業(yè)的研發(fā)實驗室，奠定了我們在設備的拓展應用及自主研發(fā)領域堅實的基礎。
公司自成立以來，始終遵循誠信發(fā)展、探索創(chuàng)新、務實致遠、以質(zhì)取勝的服務理念，并在產(chǎn)品開發(fā)和銷售中貫徹到底。公司自始至終秉承著國際標準的質(zhì)量安全保障。多年來，公司一直致力于光學設備的設計開發(fā)，以及知識產(chǎn)權的保護。我們將不斷完善管理機制和技術水平，為客戶提供更安全環(huán)保的產(chǎn)品以及更優(yōu)質(zhì)的服務。
應用領域
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醫(yī)學醫(yī)用相關產(chǎn)品分類：Wasach OCT光柵、 SLD 二極管、高速掃頻激光器、SOA 放大器、光纖延遲線，OCT光譜分析儀 ......
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光纖通訊與傳感相關產(chǎn)品分類： 波分復用器、光纖放大器、高速光電探測器、鎖頻半導體可調(diào)諧激光器、強度/相位調(diào)制器、特種光纖、超窄線寬穩(wěn)頻激光器模塊、光通訊DFB激光器......
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微波光子相關產(chǎn)品分類：20G信號發(fā)生器、高速電光調(diào)制器、高速光電探測器、高頻相位/強度電光調(diào)制器、高速示波器 、任意波形發(fā)生器...... |
氣體分析相關產(chǎn)品分類：單模聲光調(diào)制器 、超高反射率反射鏡、光電探測器模塊 、小型化氣室、中紅外氣體吸收池、激光氣體分析綜合控制器、DFB激光二極管、中紅外超連續(xù)譜光源、高精度波長計......
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量子計算相關產(chǎn)品分類： 外腔半導體激光器、空間光隔離器 、電光調(diào)制器、高精度波長計 、高精度光譜分析儀......
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激光雷達相關產(chǎn)品分類：窄線寬穩(wěn)頻激光器模塊、FMCW DFB激光器、ns級超快光開關，光電平衡探測器......
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半導體分析相關產(chǎn)品分類：激光光束分析儀、激光芯片LIV測試系統(tǒng)、近紅外相機、六軸位移臺、光束勻化...... |
機械視覺相關產(chǎn)品分類：經(jīng)濟型熒光近紅外數(shù)字相機、低成本近紅外InGaAs銦鎵砷相機，中紅外高性能非制冷相機、UV CMOS/CCD紫外波段相機、 SWIR鏡頭(C-mount）...... |
優(yōu)良光學實驗室
半導體綜合分析實驗室：半導體激光器光譜分析，功率測試，光束質(zhì)量測試，線寬測試，各種光無源器件的測試，光纖放大器等等近紅外產(chǎn)品的測試。目前我們在半導體測試，TDLAS激光法氣體分析檢測，CRDS腔衰蕩系統(tǒng),DTS高溫傳感以及DVS等項目研究開發(fā)領域有著深厚的積累，能夠為客戶提供更加精準的器件方案支持。
未來前沿光學綜合實驗室：負責公司未來前沿科學的相關應用支持。其中包括：自適應光學，量子計算，微波光子，太赫茲，微納光學等技術學習與推廣應用，
自適應光學：波前分析儀，可變形鏡，近紅外CCD相機；
微波光子：是德科技20G矢量網(wǎng)絡分析儀，25G信號發(fā)生器，20G高速調(diào)制器，22G光電接收器，光譜儀AQ6375B、771B-MIR波長計等測量設備;
太赫茲：300G太赫茲發(fā)生器，太赫茲功率計，太赫茲時域光譜儀分析儀；
微納光學：微納光纖制作平臺，光學顯微鏡，2-4.5um超連續(xù)譜光源；
量子計算：（在建中）
高新技術企業(yè)證書
各種激光器光源,光纖光柵,光譜儀中紅外相機,光纖放大器,光學晶體窗片透鏡反射鏡,準直器光纖跳線,偏振器件,濾波器濾光器標準具,延遲線光衰減器,光束整形器太赫茲晶體等
| 價格區(qū)間 | 面議 | 應用領域 | 綜合 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 | 參數(shù) | 見參數(shù)表 |
無掩膜數(shù)字光刻機 MCML-120A產(chǎn)品特點
采用數(shù)字微鏡 (DMD) 的無掩膜掃描式光刻機，365nm波長
直接從數(shù)字圖形生成光刻圖案，免去制作掩模板的中間過程，支持直接讀取GDSII和BMP文件
全自動化的對焦和套刻，易于使用
晶圓連續(xù)運動配合DMD動態(tài)曝光，無拼接問題。全幅面絕對定位精度0.1um
套刻精度： 0.2um
500 nm / 1 um分辨率，100mm x 100mm最大幅面（4~6寸晶圓），滿幅面曝光時間5~30分鐘
500um最小線寬
可灰度曝光（128階）
尺寸小巧，可配合專用循環(huán)裝置產(chǎn)生內(nèi)部潔凈空間
無掩膜數(shù)字光刻機 MCML-120A
應用
微流控、生物芯片、MEMS、功率器件、LED等試制加工
帶有2.5D圖案的微光學元件，衍射光器件制作
教學、科研
參數(shù)
MCML-110A | MCML-120A | |
Wavelength 波長 | 365nm | 365nm |
Max. frame 最大幀 | 100mm x 100mm | 100mm x 100mm |
Resolution 分辨率 | 1.0um | 500nm |
Grayscale lithography 灰度光刻 | 64 levels | 128 levels |
Max exposure 最大曝光量 | 500mJ/cm2 | 2000mJ/cm2 |
Alignment accuracy 對準精度 | <200nm | <100nm |
field curvature 場曲率 | < 1 um | < 1 um |
Speed 速度 | 5mm2 /sec | 2.5mm2 /sec |
Input file 輸入文件 | BMP, GDSII | BMP, GDSII |
Z level accuracy Z級精度 | <1 um | <1 um |
Environment 環(huán)境 | 20~25℃ | 20~25℃ |
樣品
（SU8-2002, 2um膠厚，2寸硅基底）
采購中心
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