等離子體清洗的機理：

1、什么是等離子體

等離子體是物質的一種存在狀態，通常物質以固態、液態、氣態3種狀態存在，但在一些特殊的情況下可以以第四種狀態存在，如太陽表面的物質和地球大氣中電離層中的物質。這類物質所處的狀態稱為等離子體狀態，又稱為物質的第四態。

等離子體中存在下列物質:處于高速運動狀態的電子;處于激活狀態的中性原子、分子、原子團(自由基);離子化的原子、分子;分子解離反應過程中生成的紫外線;未反應的分子、原子等，但物質在總體上仍保持電中性狀態。

2、等離子體清洗的機理

由于等離子體中的電子、離子和自由基等活性粒子的存在，其本身很容易與固體表面發生反應。等離子體清洗主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。

就反應機理來看，等離子體清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發為等離子態;氣相物質被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應生成產物分子;產物分子解析形成氣相;反應殘余物脫離表面。

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小型等離子清洗機具有成本低廉、操作靈活的特點， 與動輒十幾萬美元的大型產品相比小型等離子清潔小型機具有以下優點:

1、可以更靈活地操作，簡便地改變處理氣體的種類和處理程序。

2、不會對人員的身體造成任何傷害。

3、其成本對于等離子處理方法來說是微不足道的。

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