奧宗尼亞 工業用電解式臭氧發生器設備

用于工業和制藥行業超純水回路的*有效消毒方式MENBREL MKIII 是點點解式臭氧發生器的*新一代產品，采用固體聚合物電介質和**的電子技術制造臭氧

奧宗尼亞 工業用電解式臭氧發生器設備應用

制藥，化妝品

靜化水

奧宗尼亞工業用電解式臭氧發生器
用于工業和制藥行業超純水回路的*有效消毒方式MENBREL MKIII 是點點解式臭氧發生器的*新一代產品，采用固體聚合物電介質和**的電子技術制造臭氧

奧宗尼亞工業用電解式臭氧發生器應用
制藥，化妝品
靜化水
高靜化水
注射用水

 奧宗尼亞工業用電解式臭氧發生器半導體
純水，超純水

奧宗尼亞工業用電解式臭氧發生器 臭氧技術：

MEMBREL 點解工藝是利用水，而非氣態空氣或氧氣制備臭氧的*工藝
原水取自超純水回路，進入反應單元的陽極室，在陽極和電化穩定膜之間的接觸表面被分成兩種成分
氫質子進入膜，在陰極一側被壓縮為氫氣后釋放到大氣中，而在陽極一側的自由氧則轉化為臭氧，很快為進水所吸收
離開反應單元的水/氧氣/臭氧混合物重新被注入在回路內的循環水體內
工作原理
MEMBREL MKIII 裝置室超純水消毒的有效手段，因為臭氧利用待處理水制備，整個過程無污染生產，無需使用化學制品或其他額外的處理手段
通過投加0.1-0.2mg/l 的臭氧將菌群的數量和生物膜形成降低至*低程度，若工藝中不在需要臭氧，**處純水使用點前安裝有紫外線輻射臭氧破壞單元