氧化釔 氟化釔 氟氧化釔 Y2O3 YOF Y5O4F7 YF3

氟氧化釔 YOF Y5O4F7 YF3 

作為半導體制造設備內部的保護性涂層，半導體干蝕設備內部暴于高反應性鹵素或氧系電漿。

若非耐電漿材料元件(如，石英玻璃、氧化鋁和陽極化的鋁)以原本狀態使用，則會發生表面腐蝕而伴隨著生成粒子，其造成半導體上之微觀電路的缺陷。

因此，于半導體制造設備之待外露的表面提供用以賦予抵御電漿的耐蝕性和保護設備之元件的保護性涂層。

此保護性涂層之一是對于種類繁多的電漿展現耐蝕性的氟氧化釔。

氟氧化釔 YOF Y5O4F7 YF3 

作為半導體制造設備內部的保護性涂層，半導體干蝕設備內部暴于高反應性鹵素或氧系電漿。

若非耐電漿材料元件(如，石英玻璃、氧化鋁和陽極化的鋁)以原本狀態使用，則會發生表面腐蝕而伴隨著生成粒子，其造成半導體上之微觀電路的缺陷。

因此，于半導體制造設備之待外露的表面提供用以賦予抵御電漿的耐蝕性和保護設備之元件的保護性涂層。

此保護性涂層之一是對于種類繁多的電漿展現耐蝕性的氟氧化釔。

化學式Y2O3，白色略帶黃色粉末，不溶于水和堿，溶于酸。主要用作制造微波用磁性材料和用重要材料（單晶；釔鐵柘榴石、釔鋁柘榴石等復合氧化物），也用作光學玻璃、陶瓷材料添加劑、大屏幕電視用高亮度熒光粉和其他顯像管涂料等。