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化工儀器網>產品展廳>工業在線及過程控制儀>其它工業過程控制及在線分析儀>其它工業在線分析儀>C-Quand 在線X射線熒光法元素分析儀

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C-Quand 在線X射線熒光法元素分析儀

具體成交價以合同協議為準

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儒亞科技(北京)有限公司是一家專業的分析儀器供應商和工業自動化物聯網解決方案提供商,前身是荷蘭安米德公司上海代表處和德國Rubotherm GmbH中國分公司。發展至今,儒亞科技通過其高壓高純實驗室和工業級別大容量氫氣源解決方案、綠氫氫氣源發電機、快速吸附能力分析儀、競爭吸附和變壓吸附分析儀、高精度納米粒度分析儀和激光粒度粒形分析儀等產品為新能源、石化、化工、半導體、生物制藥、環保、新材料等領域提供前沿的技術。我們的實驗室產品還包括環保、選礦和鉆井行業專用的Zeta電位儀、啤酒飲料行業專用的三光束濁度儀等分析產品。


在工業自動化控制和在線分析領域,我們提供在線濁度、在線色度、在線粘度、在線離子濃度分析、在線EDXRF元素分析儀等產品,服務于化工、石油化工、環保、半導體、制藥、稀土生產等領域。


在物聯網傳感器領域,我們提供高性能的潤滑油油液在線清潔度檢測儀、在線油污顆粒計數器、在線油液含水量分析儀、在線油液健康度監測儀、在線潤滑油磨損分析儀、智能油液監測系統、便攜式油液監測一體化工作站等產品;為工程機械、火電風電及核電、水泥建材、鋼鐵冶金、航空航天、工業機器人及自動化生產線、港口機械物流、大型壓縮機、盾構機及軍工等行業的油液安全使用保駕護航。










高壓吸附儀,納米粒度儀,激光粒度儀,油液清潔度分析儀,高通量催化劑評價系統,電池材料高通量合成系統,在線濁度計,在線色度計,在線離子濃度分析儀,在線粘度計,在線X射線熒光元素分析儀

產地類別 進口 應用領域 環保,食品/農產品,化工,石油,能源

  

C-Quand在線X射線熒光元素分析儀基于成熟的元素分析技術-EDXRF技術,也即能量色散X射線熒光技術。該技術測量樣品中原子產生的特征X射線光譜,更重要的是,這種測量方法在整個測量過程中是連續的,而不是只對起始時間進行瞬間測量。

不間斷在線測量提供及時信息,讓您可以輕松實現過程控制并優化過程控制。C-Quand是為工業過程控制的特殊需求而設計的,它為針對產品環境的嚴謹系統提供快捷可靠的化學分析,C-Quand加上特殊應用模塊可滿足各種工業現場的嚴格要求。

技術特點:

使用EDXRF技術,C-Quand可測量從硅(原子數14)到鈾(原子數92)之間的任何元素,濃度范圍從ppm%,測量的濃度范圍和精度根據具體應用而定。

  • 長期測量的穩定性,通過內標消除檢測器和電子漂移
  • 直接測量,無需高溫轉換
  • 樣品池和第二個保護窗保護檢測器免受樣品污染
  • 配置檢漏儀,如果遇到檢測窗破裂,可切斷安全閥門
  • 檢測源是一個X射線管,意味著切換電源時,將停止輻射
  • 可選加熱測量池,可將粘度高達100cSt的高粘度樣品加熱至80
  • 寬測量范圍,從ppm%水平均可保證測量結果的準確性
  • 測量過程不受樣品密度和C/H比變化的影響
  • 配合高敏感度、低噪聲的硅漂移探測器
  • 連續JQ無損測量,保證工藝不受干擾
  • 日常維護簡單,定期清理測量池即可,測量池可拆卸,方便清潔
  • 可選擇的信號輸出模式,4-20mA信號,MODBUS TCP/IPRS485
  • 每臺儀器多可測15種元素,測量的兼容性好
  • 自動校正漂移,確保測量準確性

應用領域

XRF法是分析石油產品種總硫含量合適的方法,相比通過流動注射或轉化法測二氧化硫和硫化氫得到硫含量的技術方法相比,當檢測樣品的沸點超過450℃時,不再適合總硫分析,應用行業包括:

  • 石油精煉工業:  燃油和原油中總硫的測定、煉油催化劑中雜質和微量金屬測定
  • 化學工業:         石化工藝中催化劑的測定
  • 電鍍工業:         測定電鍍槽中的金屬元素
  • 污水處理:         測定污水中的痕量金屬元素
  • 地質學:            稀土中元素分析、玉石元素成分分析

C-Quand在線X射線熒光元素分析儀技術參數

分析

測量原理

X射線能量色散技術   輻射源: X射線管,可定制特殊應用探頭

元素范圍

(Si) 到鈾(U) (原子序數從14 92)

測量范圍

濃度等級從 0.5 ppm % 等級 (特殊應用)

元素種類

每臺儀器多可測量15種元素

精度

取決于具體應用,從 ppm % 等級 穩

定性:通常優于 0.5%(漂移自動修正)

標樣校準

在測量圍內使用標正方。簡品校正和實驗

選項。了得更高,在測量(Si, P, S, K, Ca, Cl)的時候, 建 議使用氮氣(N2)進行吹掃。

 

中央處理和控制單元

工業計算機

Windows嵌入式操系統。 15” TFT LCD 液晶屏。完整ASCII 鍵盤

。 多個屏幕(可選)

模擬輸出

獨立的420 mA模擬輸出

通訊

RS485 TCP/IP 的網絡通訊協議(MODBUS)

環境溫度

5-40°C

 

測量頭

X射線探頭

硅漂移探測器,分辨率135eV低噪聲

高壓電源

0-50kV

測量源

15W X光射線管,銀制電極

采樣窗口

Be

穩定性

自動偏移校正,自動反向散射峰校,自動環壓力校正

 

現場使用條件要求

電源

110-230VAC50/60 Hz

功耗

100VA (高溫測量池150VA

儀表風

對于Exp型版本以及標配氣動閥(可選動閥<2L/min表風

 

樣品分析要求

樣品流速

0.2-0.5 L/min

樣品池溫度

大可80°C

樣品池壓力

標準大氣壓

粘度

<100 cSt (采樣室溫度為80°C)

污染物

>10微米需濾除,消除

 

  

 



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