AFDJ-1200系列井式真空坩堝爐是由石英坩堝（或氧化鋁陶瓷坩堝）和不銹鋼法蘭組成的真空坩堝爐。主要用于煅燒真空或惰性氣體保護下的高純度化合物或擴散半導體晶片，也可用于烘燒或燒結陶瓷材料。

AFDJ-1200系列真空坩堝爐以進口含鉬電阻絲或者硅碳棒或硅鉬棒為加熱元件，采用雙層殼體結構和智能化程序控溫系統，移相觸發、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶體纖維材料，雙層爐殼間配有風冷系統，能快速升降溫，具有真空裝置，該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節能等優點。

AFDJ-1200系列井式真空坩堝爐工作溫度區間800℃至1200℃。該系列設備的控制系統，具有安全可靠，操作簡單，控溫精度高，保溫效果好，爐膛溫度均勻性高，可通氣氛抽真空等特點，廣泛應用于高等院校，科研院所等

產品型號  AFDJ-V1200

工作電源  AC220V 50/60HZ

爐膛尺寸  外徑205x內徑190x高340mm

額定功率  ≤3kw

外形尺寸  450x550x650mm

重    量  70kg

升溫速度  建議不超過20℃/min

產品特點  可裝真空裝置，能在多種氣氛下工作，50段程序控溫

加熱元件  含鉬電阻絲

常用溫度  ≤1100℃

溫度  1200℃

控溫方式  50段智能化程序PID模糊控制

恒溫精度  ±1℃

控溫儀表  智能溫控儀

密封方式  全封閉

爐    膛  氧化鋁多晶纖維爐膛，設計合理，經久耐用，保溫性能好，節能

測溫元件  K型熱電偶

爐門結構  上開式

真空極限 ≤0.1MPa

標準配件：一個，坩堝鉗1把，高溫手套1雙，使用說明書1份。

可選配件：觸摸屏控制、無紙記錄儀、遠程通訊控制系統。