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化工儀器網>產品展廳>行業專用儀器及設備>其它行業專用儀器>其它專用儀器> EVG620 NT-掩模對準光刻機系統

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EVG620 NT-掩模對準光刻機系統

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岱美儀器技術服務(上海)有限公司(Dymek Company Ltd ,下面簡稱岱美)成立于1989年,是一間擁有多年經驗的高科技設備分銷商,主要為數據存儲、半導體、光通訊、高校及研發中心提供各類測量設備、工序設備以及相應的技術支持,并與一些重要的客戶建立了長期合作的關系。自1989年創立至今,岱美的產品以及各類服務、解決方案廣泛地運用于中國香港,中國大陸(上海、東莞、北京),中國臺灣,泰國,菲律賓,馬來西亞,越南及新加坡等地區。


岱美在中國大陸地區主要銷售或提供技術支持的產品:

晶圓鍵合機、納米壓印設備、紫外光刻機、涂膠顯影機、硅片清洗機、超薄晶圓處理設備、光學三維輪廓儀、硅穿孔TSV量測、非接觸式光學三坐標測量儀、薄膜厚度檢測儀、主動及被動式防震臺系統、應力檢測儀、電容式位移傳感器、定心儀等。


岱美重要合作伙伴包括有:

Thetametrisis, EVG, FSM, Opto-Alignment, Herz, PLSINTEC, Film Sense, Reditech, Lazin, Delcom, Microsense, Shb, boffotto, RTEC, Kosaka, Nanotronics, MTInc, 4D, Daeil, Microphysics,

n&k Technology, First Nano, Schmitt, LESCO, Otsuka, STI, Kurashiki, Ryokosha, SURAGUS, Westbond...


如有需要,請聯系我們,了解我們如何開始與您之間的合作,實現您的企業或者組織機構長期發展的目標。




膜厚儀,輪廓儀,EVG鍵合機,EVG光刻機,HERZ隔震臺,Microsense電容式位移傳感器

產地類別 國產 應用領域 化工

一、產品特色

EVG620 NT-掩模對準光刻機系統|接觸式光刻機提供國家的本領域掩模對準技術在小化的占位面積,支持高達150毫米晶圓尺寸。

二、結構功能

EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著稱,在小的占位面積上結合了先進的對準功能和優化的總體擁有成本,提供了先進的掩模對準技術。它是光學雙面光刻的理想工具,可提供半自動或自動配置以及可選的全覆蓋Gen 2解決方案,以滿足大批量生產要求和制造標準。擁有操作員友好型軟件,短的掩模和工具更換時間以及高效的球服務和支持,使它成為任何制造環境的理想解決方案。

EVG620 NT或*容納的EVG620 NT Gen2掩模對準系統配備了集成的振動隔離功能,可在各種應用中實現出色的曝光效果,例如,對薄而厚的光刻膠進行曝光,對深腔進行構圖并形成可比的形貌,以及對薄而易碎的材料(例如化合物半導體)進行加工。此外,半自動和全自動系統配置均支持EVG專有的SmartNIL技術。

三、EVG620 NT-接觸式光刻機特征

晶圓/基板尺寸從小到150 mm / 6'' 系統設計支持光刻工藝的多功能性
易碎,薄或翹曲的多種尺寸的晶圓處理,更換時間短 帶有間隔墊片的自動無接觸楔形補償序列
自動原點功能,用于對準鍵的確居中 具有實時偏移校正功能的動態對準功能
支持新的UV-LED技術 返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統
自動化系統上的手動基板裝載功能 可以從半自動版本升級到全自動版本
小化系統占地面積和設施要求 多用戶概念(無限數量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權限,不同的用戶界面語言)
先進的軟件功能以及研發與全面生產之間的兼容性 便捷處理和轉換重組
遠程技術支持和SECS / GEM兼容性


四、附加功能

1.鍵對準

2.紅外對準

3.納米壓印光刻(NIL)


五、EVG620 NT技術數據

曝光源 汞光源/紫外線LED光源
先進的對準功能 手動對準/原位對準驗證
自動對準 動態對準/自動邊緣對準            

對準偏移校正算法

EVG620 NT產能 全自動:一批生產量:每小時180片            

全自動:吞吐量對準:每小時140片晶圓

晶圓直徑(基板尺寸):高達150毫米

對準方式 上側對準:≤±0.5 µm            

底側對準:≤±1,0 µm

紅外校準:≤±2,0 µm /具體取決于基材

鍵對準:≤±2,0 µm

NIL對準:≤±3.0 µm

曝光設定 真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式
楔形補償 全自動軟件控制
曝光選項 間隔曝光/洪水曝光/扇區曝光


六、系統控制

操作系統

Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數

多語言用戶GUI和支持

CN,DE,FR,IT,JP,KR

實時遠程訪問,診斷和故障排除

工業自動化功能 盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,彎曲,翹曲,邊緣晶圓處理
納米壓印光刻技術 SmartNIL


七、機器外形展示

EVG620 NT-掩模對準光刻機系統



八、案例展示

EVG620 NT-掩模對準光刻機系統


EVG620 NT-掩模對準光刻機系統



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