高溫真空氣氛燒結爐應用于適合各類大專院校實驗室、工礦企業化驗室，供化學分析、物理測定，以及金屬、陶瓷的燒結和熔解、小型鋼件等加熱、焙燒、烘干、熱處理用。

一、產品名稱：氣氛燒結爐；

二、氣氛燒結爐用途：用于材料的氣氛（氮氣）燒結實驗；

三、氣氛燒結爐技術指標：

1．額定溫度：1100℃。

2．常用溫度: 1000℃。

3．爐膛尺寸：400×300×300 mm（L×W×H）。

4．有效工作尺寸：350×260×260 mm（L×W×H）。

5．加熱方式：上下加熱。

6.溫度儀表：可編程序控制（40段程序）。

7．控制方式：可控硅移相調壓。

8．爐溫穩定度：±1℃（以儀表顯示為準）。

9．均勻性：在有效工作尺寸內±5℃。

10.爐門密封：水冷卻套、硅橡膠密封。

11.氣氛控制：氣體流量計+減壓閥。

12.功率：36kw。

四、氣氛燒結爐爐體部分：爐膛采用莫來石聚輕磚砌筑，加熱元件上下排布，溫度更均勻。爐殼密封。為提高密封墊的使用壽命在爐門口設有循環水冷套以降低密封處的溫度。在燒結工藝結束時可以把爐膛拉出爐體，產品在氣體保護的環境下達到快速冷卻的目的。進氣設爐膛前部，經加熱腔預熱后分多處進入爐內，排氣經爐頂前部排出。爐內氣氛均勻，減小爐內溫差。氣路上裝有氣體流量計，用于正常使用控制氣氛流量。

五、高溫真空氣氛燒結爐冷卻部分：爐門采用循環式水冷。設有進出水接頭。

六、電氣部分：電氣部分采用與爐體一體化結構，整個電氣元件安裝在爐體一側，結構緊湊、占用空間小。溫控安裝在爐體側面板上，觀察直觀，調節方便，溫控儀具有PID調節功能，可自動跟蹤設定PID值，可任意設定測量分度密碼，同時具備補償功能，可使爐膛溫度與顯示值一致，控溫方式：可控硅移相調壓控制，具有軟啟動、軟關斷、0~98%輸出可調節，面板上各種儀表開關等有相應的中文標牌。