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飛馳(北京)科學儀器有限公司

化工儀器網>產品展廳>物理特性分析儀器>粒度儀>納米粒度儀>nanoSAQLA 多檢體納米粒徑測量系統

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nanoSAQLA 多檢體納米粒徑測量系統

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大塚電子(蘇州)有限公司成立于20074月,致力于讓中國客戶能安心使用已有50年歷史的日本大塚電子所研發與生產的測量與分析設備。

我們的產品涵蓋LEDOLED等光源和照明行業,產品包括有液晶和有機EL顯示行業的光學特性評估與檢測設備;用于測量半導體晶圓和薄膜化學品厚度的設備;以及評估墨水、研磨劑、醫藥和化妝品材料的納米顆粒(粒徑和ζ電位測量)設備,這些設備均應用了我們的“光”技術。

在日本,我們的產品擁有眾多交付實績。為提供全面的售前和售后支持,我們設立了技術和維護中心,努力提供快速、令客戶滿意并能使客戶感受到關懷和價值的服務。

我們致力于不斷提升產品價值和支持服務,做到讓客戶能主動向他人推薦大塚電子的產品。

我們是大塚集團的一員,繼承了集團的企業理念「Otsuka-people creating new products for better health worldwide

以及大塚集團歷代的3個思想,即「流汗悟道」「實證」「創造性」,并以此行動。我們推出創新產品,開展業務,為社會做出貢獻。

對于那些挑戰可能性邊界的人來說,天空是無限的。超越它,就會有一個全新的前沿世界。

利用大塚電子的技術“光”的力量,為業界提供解決方案是我們的使命。

Otsuka-people creating new products for better health worldwide

傳承大塚的“實證與創造”精神,時刻為了實踐“因為是大塚所以能做到”、"只有大塚才能做到"的口號而努力奮斗。

大塚電子,通過革新的且富有創造性的產品(設備)服務,在「健康和生活」的領域,不斷地為人民的生活做著貢獻。



zeta電位?粒徑?分子量測量系統,晶圓在線測厚系統,線掃描膜厚儀,顯微分光膜厚儀,線掃描膜厚儀,分光干涉式晶圓膜厚儀,相位差膜?光學材料檢測設備,非接觸光學膜厚儀,小角激光散射儀,多檢體納米粒徑量測系統,量子效率測量系統

測量范圍 0.6nm~10μm微米 產地類別 進口
分散方式 濕法分散 價格區間 20萬-30萬
儀器種類 動態光散射 應用領域 食品/農產品,電子/電池,制藥/生物制藥

 多檢體納米粒徑測量系統 nanoSAQLA

多檢體納米粒徑量測系統nanoSAQLa

多檢體納米粒徑測量系統nanoSAQLA利用動態光散射法(DLS法)的粒徑測量(粒徑0.6nm~10μm)儀器。

追求更高品質管理的需求,搭載了各種功能。

可對應檢體范圍廣,低濃度~高濃度類,新光學系,輕便•小型,實驗室標配。實現標準1分鐘高速測量。

新產品,非浸泡型,不受夾雜物的影響,無自動取樣器,“5檢體連續測量”的標準設備。

特點

  • 只需一臺,輕松實現5檢體連續測量
  • 低濃度到高濃度都可對應
  • 高速測量,標準時間1分鐘
  • 搭載了簡單的測量功能 (1鍵測量)
  • 內置非浸泡型的cell block,無分注夾雜物
  • 搭載溫度梯度功能

測量范圍(理論值)

  • 粒徑 0.6nm~10μm
  • 濃度范圍 0.00001~40%
  • 溫度范圍 0~90℃*

式樣

型號 多檢體納米粒徑測量系統
測量原理 動態光散射法
光源 高出力半導體激光*1
檢出器 高感光度APD
連續測量 5檢體
測量范圍 0.6nm ~ 10μm
對應濃度 0.00001 ~ 40% *2
溫度 0 ~ 90℃ (有溫度梯度功能) *3
規格 遵照 ISO 22412:2017
遵照JIS Z 8828:2013
遵照JIS Z 8826:2005
尺寸 W240 X D480 X H375 mm
重量 約18 kg
軟件 平均粒徑解析 (累積法解析)
粒度分布解析
(Marquardt法/NNLS/Contin法/Unimodal法)
粒度分布疊寫
逆相關函數?殘差plot
粒徑monitor
粒徑顯示范圍 (0.1 ~ 106 nm)
分子量計算功能

 

*1 根據激光安全基準 (JIS C6802)級別區分,本儀器的安全級別為1級。
*2 Latex120nm:0.00001 ~ 10%、牛黃膽酸:~40%
*3 標準glass cell的批量測量的情況。
一次性cell或連續測量時, 15 ~ 40℃ (不對應溫度梯度)

 

測量范例

01.png

 

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