高光譜納米顯微成像系統NANO HNI是一種超高速且一體化的可定制高光譜納米顯微成像系統，具有高空間分辨率和光譜分辨率。*集成的系統可快速映射VIS-NIR-SWIR光譜范圍內的漫反射，透射率，光致發光，電致發光和熒光。基于高通量全局成像濾波器，NANO HNI比基于掃描類型光譜儀的高光譜系統更快，更高效。

高光譜納米顯微成像系統NANO HNI的使用：

u 可在400至1700 nm范圍內成像，帶寬為3 nm，能夠測量光電特性，如電壓開路和外量子效率，并可對材料中的缺陷進行準確的檢測和表征可進行復雜的材料分析，如太陽能電池特性以及半導體質量控制，如鈣鈦礦, 砷化鎵, SiC碳化硅, CIS, CIGS 等；

u檢索暗場圖像，并獲得透明和未著色樣品（比如聚合物，晶體或活細胞）的對比度；

u研究包括活細胞和組織在內的復雜的環境的紅外標記。以第二生物窗口中發射的紅外熒光團的光譜異質性為例

產品優勢

Ø快速全局映射（非掃描）

Ø高空間和光譜分辨率完整系統（光源、顯微鏡、照相機、過濾器、軟件）

Ø無損分析

Ø可根據客戶具體要求定制

Ø在可見光范圍內靈敏度為400至1200納米，在SWIR范圍內靈敏度為900至1700納米。