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CMD2000 銦錫氧化物剪切研磨設備

參考價 118900
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協議為準

聯系我們時請說明是化工儀器網上看到的信息,謝謝!


上海依肯機械設備有限公司是一家中德合作經營企業,依肯通過引進德國IKN技術和科學管理模式,形成了完整的研發、制造及營銷體系。她保持與的混合乳化技術同步,同時擁有XX的技術研究人才和生產能力,為中國及提供多元化的產品及技術服務。她已經發展成為中國流體高剪切混合設備行業。
公司主要研發,生產制造,銷售流體領域的幾大系列:一乳化機,二 均質機,三 分散機,四 膠體磨,五 乳化泵,六成套設備等系列。為混合、分散、均質、懸浮、乳化、濕磨、粉液混合等領域提供高品質的解決方案,設備加工材料細度可達微納米級別。依肯公司作為供應商,憑借著對廣大客戶要求的深入了解,為客戶解決流程工藝中的難題,混合技術,乳化均質,粉液混合技術和合理的配置方案,確保設備運行穩定的可靠性。她已廣泛應用于石油、石化、化工、食品、生物制藥、核工業、精細化工等領域,并成功為國家重點工程配套,部分產品返銷國外,取得了顯著的經濟效益和社會效益。
“追求高品質”是依肯公司是的宗旨。“成功源自創新”亦是公司全體員工一直努力追隨的目標。上海依肯機械設備有限公司將以求實、創新的企業精神走向市場。在您在關注和支持下、她將以不斷發展壯大,在混合乳化設備制造的廣闊天地中散發出*的魅力。






高剪切乳化機,均質機,膠體磨,分散機,剪切機,乳化泵,均質泵,剪切泵,攪拌機,混合機,粉液混合機,不銹鋼反應釜,實驗室乳化機,實驗室均質機,實驗室膠體磨,超細勻漿機,成套乳化設備等

變速方式 變頻變速 電機功率 4kW
調速范圍 0-14000r/min 分散輪直徑 55mm
罐容量 0-100L 類型 剪切分散機
升降行程 75mm 速度范圍 1200rpm以上
速度類別 有級變速(多速) 外形尺寸(長*寬*高) 350*350*750mm
應用領域 醫療衛生,環保,生物產業,石油,能源 整機重量 45Kg

銦錫氧化物剪切研磨設備,ITO 半導體透明導電膜漿料研磨粉碎設備,ITO薄膜漿料高剪切研磨分散機,,高剪切研磨分散設備,導電聚合物研磨分散設備,德國進口高剪切研磨設備,高轉速研磨分散設備

IKN研磨分散機設計*,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進行調整。

LED具有光效高、能耗低、壽命長、安全環保等優勢,是一種具有廣闊應用前景的照明方式,受到越來越多國家的重視。目前LED已廣泛應用于高效固態照明領域中,如顯示屏、汽車用燈、背光源、交通信號燈、景觀照明等。

 

ITO是一種N型氧化物半導體-氧化銦錫,ITO薄膜即銦錫氧化物半導體透明導電膜,通常有兩個性能指標:電阻率和透光率。

就透光率而言,目前ITO結構存在以下缺陷。出光需要從ITO薄膜透射出去,使出光強度不高。

 

可以通過研磨設備將其聚合物進行細化,均勻分散,這也就可以達到混合均勻細化的效果,可以順利通過過濾網,即達要求。

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上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結構,精密的零部件配合運轉平穩,運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續24小時不停機運行。

CMD2000系列研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品。

yi級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例,依據以前的經驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

 

CMD2000研磨分散機為立式分體結構,有一定輸送能力,可以處理高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質要求嚴苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計,可通冷卻或者升溫介質。

研磨分散機的特點:

1 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨

 

2 定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

4 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

5 高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。

 

從設備角度來分析,影響分散效果因素有以下幾點:

1.研磨頭的形式(批次式和連續式)(連續式比批次式要好)

2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

3.研磨的齒形結構(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)

5.循環次數(越多效果越好,到設備的期限就不能再好了。)

 

線速度的計算:

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

轉子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。 
IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(轉子直徑)X 轉速 RPM  /   60

 所以轉速和分散頭結構是影響分散的一個zui重要因素,研磨分散機的高轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的

 

CMD2000系列研磨分散機設備選型表
 

型號

流量

L/H

轉速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

CMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

CMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

CMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

CMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

CMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,可以被調節到zui大允許量的10%

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