設備說明：

HTK - 箱式爐保溫材料和加熱元件均為石墨，高溫度2200°C，適合那些熱處理應用。根據應用需要可配備石墨反應罐，該反應罐可以通入氣氛。對有氣體釋放的應用來說，反應罐可以保護加熱元件，延長爐子的使用壽命。配備反應罐后，溫度均勻性也有所改善，小于±10°C。石墨爐的可在10-3mbar真空度下使用，也可用于保護氣氛如氮氣/氬氣還有反應性氣體如氫氣，一氧化碳。HTK GR不能在氧氣環(huán)境下使用。鎢金屬爐（HTK W）和鉬金屬爐可用于高真空和純的氣氛環(huán)境。工作真空度可達高級別真空5 x 10-6 mbar。若有需要甚至可達超高真空等級。常用氣氛包含：氮氣，氬氣，氫氣或混合氣體。爐子的加熱元件和保溫材料材質是一樣的。保溫材料為鎢和鉬制的防輻射擋板。有氣體導入或釋放或者需要提高溫度均勻性的應用可配備反應罐。HTK W高溫度2200°C，HTK MO為1600°C。陶瓷纖維爐HTK KE 可用于自定義比例的含氧混合氣氛或*純氧環(huán)境中。1350°C爐子加熱元件為鐵鉻鋁電阻絲，1800°C的爐子加熱元件為硅鉬棒。陶瓷纖維爐可用于惰性氣體環(huán)境，但是氣氛純度較低。HTK - 箱式爐可短時間內用于真空環(huán)境，由于保溫材料的多孔性，真空度只能達粗真空級別。

優(yōu)勢

※金屬爐可提供精確定義的高純度氣氛環(huán)境（6N或更好）

※金屬爐可達高真空度

※石墨爐可達高溫度

※根據要求提供氫氣分壓操作

※HTK KE可在*純氧環(huán)境下操作

※粉末樣品的卸樣控制

※用于質量控制的數據記錄