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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>薄膜生長設備>原子層沉積設備>E200S Exploiter系列原子層沉積設備

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E200S Exploiter系列原子層沉積設備

具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱 深圳市原速科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號 E200S
  • 產地 深圳市寶安區新安街道1號樓511-513
  • 廠商性質 生產廠家
  • 更新時間 2019/8/22 9:29:56
  • 訪問次數 712

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原速科技(Superald,LLC)是一家專注于開發新一代原子層沉積技術的高科技企業,為半導體、柔性顯示、光學鍍膜、太陽能電池及鋰電池等領域的薄膜研發和生產提供優質的技術服務和一體化解決方案,致力打造*的薄膜材料制備平臺。

原子層沉積設備/原子層沉積系統

產地類別 國產 價格區間 50萬-100萬
應用領域 生物產業,石油,能源,電子/電池

1、產品特色

(1)傳輸管路的優化設計,有效地避免管路堵塞及交叉污染問題

(2)工業化級別標準集成:PLC+工控機+觸摸屏

(3)軟件操作界面友好,可真正實現“一鍵沉積”

(4)完善全面的安全互鎖方案

(5)實時監測鍍膜工藝

2、可制備的材料種類

(1)氧化物:Al2O3、TiO2、SiO2、HfO2、Ta2O5、ZrO2、ZnO、SnO2、La2O3、Lu2O3

(2)金屬材料及合金:Fe、Co、Ni、Cu、Ag、Au、Ru、Pt、Ag、Au等

(3)二元/多元材料:AlN、HfON、LaAlO3、MnN、WN等

(4)納米層壓材料:(Al2O3/ZrO2)n

3、技術指標

(1)本底真空:<5.0×10-3torr,高性能機械泵(可定制其它款型)

(2)樣品腔室:φ200mm(可定制其它款型)

(3)前驅體源:3

(4)氧化/還原反應物:3路

(5)沉積溫度:室溫-500℃(可定制其他溫度)

(6)前驅體管道溫度:室溫-120℃(可定制其他溫度)

(7)源瓶加熱溫度:室溫-120℃(可定制其他溫度)



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