YED5100-H 激光粒度儀-激光顆粒度分析儀
| 參考價(jià) | ￥ 14 |
| 訂貨量 | ≥1 |
- 公司名稱 廈門(mén)億恩達(dá)科技有限公司-J
- 品牌
- 型號(hào) YED5100-H
- 產(chǎn)地 廈門(mén)
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時(shí)間 2018/1/23 14:19:19
- 訪問(wèn)次數(shù) 433
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主要技術(shù)參數(shù)：
規(guī)格型號(hào) | YED5100（標(biāo)配） | YED5100（高配） | ||
執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn) | ISO 13320-1:1999；GB/T19077.1-2008 | |||
測(cè)試范圍 | 0.1μm -600μm | 0.1μm -800μm | ||
探測(cè)器通道數(shù) | 48 | 48 | ||
準(zhǔn)確性誤差 | <1%（國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)樣品D50值） | |||
重復(fù)性誤差 | <1%（國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)樣品D50值） | |||
免排氣泡 | 具備免排氣泡設(shè)計(jì)，無(wú)氣泡干擾數(shù)據(jù)更準(zhǔn)確 | |||
誤操作保護(hù) | 儀器具備誤操作自我保護(hù)功能，儀器對(duì)誤操作不響應(yīng) | |||
激光器參數(shù) | He-Ne激光器 λ=632.8nm, p>2mW | |||
分散方法 | 超聲 | 頻率：f=40KHz,功率：p=80W,時(shí)間：隨意可調(diào) | ||
循環(huán)、攪拌 | 循環(huán)攪拌一體化設(shè)計(jì)，轉(zhuǎn)速：100-33950rpm轉(zhuǎn)速可調(diào) | |||
循環(huán)流量 | 額定流量：0-10L/min可調(diào) 額定功率：25W | |||
樣品池 | 自行設(shè)計(jì)沸騰式樣品池，分散效果更好，容量：190-600mL均可正常測(cè)試 | |||
軟件功能 | 分析模式 | 包括自由分布、R-R分布和對(duì)數(shù)正態(tài)分布、按目分級(jí)統(tǒng)計(jì)模式等，滿足不同行業(yè)對(duì)被測(cè)樣品粒度統(tǒng)計(jì)方式的不同要求 | ||
統(tǒng)計(jì)方式 | 體積分布和數(shù)量分布，以滿足不同行業(yè)對(duì)于粒度分布的不同統(tǒng)計(jì)方式 | |||
統(tǒng)計(jì)比較 | 可針對(duì)多條測(cè)試結(jié)果進(jìn)行統(tǒng)計(jì)比較分析，可明顯對(duì)比不同批次樣品、加工前后樣品以及不同時(shí)間測(cè)試結(jié)果的差異，對(duì)工業(yè)原料質(zhì)量控制具有很強(qiáng)的實(shí)際意義 | |||
自行DIY顯示模板 | 用戶自定義要顯示的數(shù)據(jù)，根據(jù)粒徑求百分比、根據(jù)百分比求粒徑或根據(jù)粒徑區(qū)間求百分比，以滿足不同行業(yè)對(duì)粒度測(cè)試的表征方式。徑距、*性、區(qū)間累積等等 | |||
測(cè)試報(bào)告 | 測(cè)試報(bào)告可導(dǎo)出Word、Excel、圖片（Bmp）和文本（Text）等多種形式的文檔，滿足在任何場(chǎng)合下查看測(cè)試報(bào)告以及科研文章中引用測(cè)試結(jié)果 | |||
多語(yǔ)言支持 | 中英文語(yǔ)言界面支持，還可根據(jù)用戶要求嵌入其他語(yǔ)言界面。 | |||
智能操作模式 | 真正全自動(dòng)無(wú)人干預(yù)操作，無(wú)人為因素干擾，您只需按提示加入待測(cè)樣品即可，測(cè)試結(jié)果的重復(fù)性更好。 | |||
操作模式 | 電腦操作 | |||
測(cè)試速度 | <2min/次（不含樣品分散時(shí)間） | |||
體積 | 1170mm*460mm*470mm | |||
重量 | 35Kg | |||
散射理論的研究開(kāi)始于上一世紀(jì)的70年代。1871年，瑞利（Lord Rayleigh）首先提出了*的瑞利散射定律，并用電子論的觀點(diǎn)解釋了光散射的本質(zhì)。瑞利散射定律的適用條件是散射體的尺寸要比光波波長(zhǎng)小。
1908年，米氏（G. Mie）通過(guò)電磁波的麥克斯韋方程，解出了一個(gè)關(guān)于光散射的嚴(yán)格數(shù)學(xué)解，得出了任意直徑、任意成分的均勻粒子的散射規(guī)律，這就是*的米氏理論。
1957年， H. C. Van de Hulst 出版了關(guān)于微小粒子光散射現(xiàn)象的專著，總結(jié)了粒子散射的普遍規(guī)律，受到科技界人士的廣泛注意，這本專著被認(rèn)為是光散射理論領(lǐng)域的經(jīng)典文獻(xiàn)。
1969年，M . Kerker 系統(tǒng)論述了光及電磁波散射的一般規(guī)律，為散射理論的進(jìn)一步發(fā)展做出了貢獻(xiàn)。1983年，C. F. Bo hren ，O. R. Huff man綜合前人的成果，又發(fā)表了關(guān)于微小粒子對(duì)光散射及吸收的一般規(guī)律，更全面地解釋了光的各種散射現(xiàn)象。至此，散射理論的體系建立起來(lái)了。
1976年J . Swit henbank 等人利用米氏理論在時(shí)（ d為散射粒子的直徑，λ為光波波長(zhǎng)）的近似式 ——夫瑯和費(fèi)（Franhofer）衍射理論發(fā)展了激光粒度儀，開(kāi)辟了散射理論在計(jì)量測(cè)試中的又一新領(lǐng)域。
由于光散射法適用范圍寬，測(cè)量時(shí)不受顆粒光學(xué)特性及電學(xué)特性參數(shù)的影響，因此在隨后的三十年時(shí)間內(nèi)已成為粒度計(jì)量中zui為重要的方式之一。
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