本鍍膜機主要應用于大專院校、科研機構、企業實驗室及微小產品進行真空鍍膜等真空處理的工藝研究、樣板試制、操作培訓和生產。
該設備主機與控制一體化設計,操控方便;結構緊湊,占地面積小。該系列設備廣泛應用于高校、科研院所的教學、科研實驗以及生產型企業前期探索性實驗及開發新產品等,深受廣大用戶好評。
技術參數:
- 真空腔室:ф300×H360mm, 304 優質不銹鋼真空腔室/(不包含真空機組,
480x320x460mm寬X高X深)
- 真空系統:復合分子泵+直聯旋片泵+高真閥門高真空系統,數顯復合真空計;
- 真空極限:(空載)8.0×10-5Pa;
- 漏率:≤0.8Pa/h;
- 抽速:(空載)從大氣抽至 5.0×10-3Pa≤13min;
- 膜厚不均勻性:≤±5%(基片臺Φ80mm 范圍內);
- 其他:磁控濺射和蒸發鍍一體機等。