主要特點

•    采用氣體作為清洗介質，避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。
•    可短時間內*清洗掉有機污染物。
•    清洗程度可達到分子級。
•    可在特定條件下根據需要改變某些材料表面的性能。
•    清洗過程中的輝光放電可對某些特殊用途的材料加強粘附性、相容性和浸潤性，并可消毒和殺菌。
•    樣品臺可選配加熱功能，可加負偏壓，用以實現離子蝕刻。
•    廣泛應用于光學、光電子學、電子學、材料科學、生命科學、高分子科學、生物醫學、微觀流體學等領域。

參數

•    電壓：AC220V  10A
•    消耗功率：<500W（包括真空泵）
•    RF電源：輸出功率100W，輸出頻率13.56MHz
•    腔體：Φ190mm×98mm
  
•    石英管：Φ180mm×55mm，壁厚7mm
•    內腔：Φ165mm×55mm
•    清洗電極：Φ120mm
•    樣品臺：Φ150mm，有效尺寸Φ140mm
•    樣品臺與電極間距：15mm-50mm可調
•    抽氣管：Φ12mm
•    極限真空度：0.1Pa
•    工作真空度：60Pa-500Pa
•    氣路數量：2路（選裝）
•    流量控制器數量：1、2
•    流量顯示儀：2通道
•    氣路接口：Φ6mm
•    加熱樣品臺：Φ140mm，加熱樣品溫度RT-600℃±1℃（選裝）
•    冷卻水壓力：0.2KPa-0.4KPa
•    工作環境：溫度5℃-35℃，濕度<80%（相對濕度）不結露，海拔高度0-2000m

產品規格

• 　尺寸：245mm×235mm×460mm（不含真空泵）
•   重量：20kg（不含真空泵）

可選配置

•    加熱樣品臺
•    流量控制器（量程10、50、100，zui多可增加2個通道）