| *Heidolph的磁力攪拌器，歸因于其能夠流暢地強(qiáng)烈混合低粘度溶液。 以應(yīng)用為依靠，它們能夠同時混合和加熱。它們是分解有機(jī)物和無機(jī)物的 *。 Heidolph 磁力攪拌器的優(yōu)點(diǎn)： • 可根據(jù)需要選擇不同形狀和大小的攪拌盤 • 操作方面，數(shù)字顯示，帶背景燈 • 800W的加熱能力，快速加熱 • 轉(zhuǎn)速zui大可達(dá)到14，000rpm • 強(qiáng)大磁力，輕松驅(qū)動攪拌子 • zui多可攪拌20L水 • 免維護(hù)的發(fā)動機(jī)，啟動順暢 • 溫度調(diào)節(jié)精度可至±1℃ • 高效率驅(qū)動，低效率消耗 • 包裹防腐蝕材料的硅合金機(jī)身，持久耐用 | 
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| | | 加熱攪拌MR Hei-End | 加熱攪拌MR Hei-Tec/Tec[] | 加熱攪拌MR Hei-Standard | 攪拌MR Hei-Mix D/L/S | | 加熱型磁力攪拌器MR Hei-End • 800Ｗ加熱功率 （600 W 于 115/100 V） •加熱盤: 陶瓷涂層的硅鋁合金 •優(yōu)秀的熱傳導(dǎo)效率和分配性能 •優(yōu)秀的防刮花和抗化學(xué)腐蝕性能 •加熱盤直徑: 145 mm •通過兩個獨(dú)立的溫度探頭, 提供額外的安全控制和加熱盤斷電功能 •預(yù)設(shè)溫差△T, 當(dāng)溫度偏離控制溫度達(dá)到預(yù)設(shè)定的溫度差時 •獨(dú)立線路開關(guān)自動停止加熱 •*避免錯誤的溫度設(shè)定 •速度范圍: 30 - 1,400 rpm •出眾的溫度控制精度: ±1 % •數(shù)字顯示速度和溫度（包括設(shè)定值和實(shí)際值） •加熱盤溫度范圍: 20 - 300 °C •介質(zhì)溫度范圍:zui高 250 •精確溫度設(shè)定：±1K •當(dāng)停止加熱時, 加熱盤溫度仍高到50°C, 顯示屏上顯示加熱盤的殘留熱量 •照明開關(guān) •三端雙向可控硅開關(guān)元件, 確保產(chǎn)品的使用壽命 •電子轉(zhuǎn)速限制, 保護(hù)發(fā)動機(jī) •加強(qiáng)型大功率攪拌磁力發(fā)動機(jī), 驅(qū)動攪拌子輕而易舉 •優(yōu)秀的攪拌性能，處理量zui大達(dá) 20升（ H2O） MR Hei-Tec •800 W加熱功率 （600 W 于 115/100 V） •數(shù)字顯示設(shè)定溫度和實(shí)際溫度 •加熱盤溫度范圍: 20 – 300°C •介質(zhì)溫度范圍: zui高達(dá) 250°C •速度范圍: 100 - 1,400 rpm •速度控制精度:±2 % •通過兩個獨(dú)立的溫度探頭, 提供額外的安全控制和加熱盤斷電功能 •當(dāng)溫度偏離控制溫度達(dá)50°C時，獨(dú)立線路開關(guān)自動停止加熱 •照明開關(guān) •電子溫度控制 （選配 EKT Hei-Con） •精確溫度設(shè)定: ±1K （選配 EKT Hei-Con） •介質(zhì)溫度控制精度: ±1K （選配 EKT Hei-Con） •三端雙向可控硅開關(guān)元件, 確保產(chǎn)品的使用壽命 •電子轉(zhuǎn)速限制, 保護(hù)發(fā)動機(jī) •加強(qiáng)型大功率攪拌磁力發(fā)動機(jī), 驅(qū)動攪拌子輕而易舉 •優(yōu)秀的攪拌性能，處理量zui大達(dá) 20升（ H2O） MR Hei-Tec •加熱盤: 陶瓷涂層的硅鋁合金 - 優(yōu)秀的熱傳導(dǎo)效率和分配性能 - 優(yōu)秀的防刮花和抗化學(xué)腐蝕性能 •加熱盤直徑: 145 mm MR Hei-Tec [ ] •與 MR Hei-Tec 參數(shù)* •正方形加熱盤 •加熱盤由瓷釉涂層硅鋁合金制備而成 •加熱盤尺寸 w x d （mm）: 132 x 132 適用于任何實(shí)驗(yàn)室的標(biāo)準(zhǔn)攪拌器  MR Hei-Standard • 800 W 加熱功率 （600 W 于 115/100 V） •加熱盤溫度范圍: 20 – 300°C •介質(zhì)溫度范圍: zui高達(dá) 250°C •速度范圍: 100 - 1,400 rpm •速度控制精度:±2 % •加熱盤: 陶瓷涂層的硅鋁合金 - 優(yōu)秀的熱傳導(dǎo)效率和分配性能 - 優(yōu)秀的防刮花和抗化學(xué)腐蝕性能 •加熱盤直徑: 145 mm •通過兩個獨(dú)立的溫度探頭, 提供額外的安全控制和加熱盤斷電功能 •當(dāng)溫度偏離控制溫度達(dá)50°C時，獨(dú)立線路開關(guān)自動停止加熱 •電子溫度控制 （選配 EKT Hei-Con） •精確溫度設(shè)定: ±1K （選配 EKT Hei-Con） •介質(zhì)溫度控制精度: ±1K （選配 EKT Hei-Con） •三端雙向可控硅開關(guān)元件, 確保產(chǎn)品的使用壽命 •電子轉(zhuǎn)速限制, 保護(hù)發(fā)動機(jī) •加強(qiáng)型大功率攪拌磁力發(fā)動機(jī), 驅(qū)動攪拌子輕而易舉 •優(yōu)秀的攪拌性能，處理量zui大達(dá) 20升（ H2O） 攪拌單功能 MR Hei-Mix D •數(shù)字顯示，電子速度控制 •速度范圍: 100 - 1,400 rpm •速度控制精度:±2 % •加強(qiáng)型大功率攪拌磁力發(fā)動機(jī), 驅(qū)動攪拌子輕而易舉 •加熱盤材料為抗腐蝕不銹鋼 （V2A） •加熱盤直徑: 145 mm •延長操作時間, 亦只有極微熱量傳送至加熱盤 •*用于細(xì)胞生物學(xué)實(shí)驗(yàn)室MR Hei-Mix L •與MR Hei-Mix D參數(shù)*, 無數(shù)字顯示MR Hei-Mix S •白色, 抗化學(xué)腐蝕 PVDF 加熱盤 •特別*用于滴定 •加熱盤直徑: 105 mm •電子速度控制，無數(shù)字顯示 •大范圍速度設(shè)定: 0 - 2,200 rpm •機(jī)身: 抗化學(xué)腐蝕材料聚氨酯 •zui小的空間需要: 126 ×80×140 mm （w × h × d） | 
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