一、HMDS預處理系統哪家好，HMDS烤箱技術參數：

電源電壓：AC 220V±10%/50Hz±2%

輸入功率：2400W

控制系統：進口智能化觸摸屏+PLC系統

溫度控制器：高精度、雙數顯PID控制器

控溫范圍：室溫+10℃-250℃

溫度分辨率：0.1℃

溫度波動度：±0.5℃

達到真空度：133Pa

容積：90L

工作室尺寸（mm）：450*450*450（可選擇）

試樣架：2塊

材質：316L高級不銹鋼

二、HMDS預處理系統哪家好，HMDS烤箱的特點

1）預處理性能更好，由于是在經過數次的氮氣置換再進行的HMDS處理，所以不會有塵埃的干擾，再者，由于該系統是將"去水烘烤"和HMDS處理放在同一道工藝，同一個容器中進行，晶片在容器里先經過100℃-200℃的去水烘烤，再接著進行HMDS處理，不需要從容器里傳出，而接觸到大氣，晶片吸收水分子的機會大大降低，所以有著更好的處理效果。

2）處理更加均勻，由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上，所以有液態涂布不可比擬更好的均勻性。

3）效率高，液態涂布是單片操作，而本系統一次可以處理多達4盒的晶片。

4）更加節省藥液，

5）更加環保和安全，HMDS是有毒化學藥品，人吸入后會出現反胃、嘔吐、腹痛、刺激胸部、呼吸道等，由于整個過程是在密閉的環境下完成的，所以不會有人接觸到藥液及其蒸汽，也就更加安全，它的尾氣是直接由機械泵抽到尾氣處理機，所以也不會對環境造成污染。

三、的操作方法:

             六甲基二硅胺（HMDS）是黃光區zui毒的東西，建議使用HMDS真空烘箱，HMDS真空烘箱預處理程序為：打開真空泵抽真空，待腔內真牢度達到某一高真空度后，開始充人氮氣，充到達到某低真空度后，再次進行抽真空、充入氮氣的過程，到達設定的充入氮氣次數后，開始保持一段時間，使硅片充分受熱，減少硅片表面的水分。然后再次開始抽真空，充入通過氮氣的HMDS氣體，在到達設定時間后，停止充入HMDS藥液，進入保持階段，使硅片充分與HMDS反應。當達到設定的保持時間后，再次開始抽真空。充入氮氣，完成整個作業過程。
        HMDS與硅片反應：首先加熱到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS與表面的OH一反應，在硅片表而生成硅醚，從而使極性表面變成非極性表面。整個反應持續到空間位阻（*基硅烷基較大）阻止其進一步反應。
    尾氣排放等：多余的HMDS蒸汽（尾氣）將由真空泵抽出，排放到廢氣收集管道。