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化工儀器網>產品展廳>常用儀表>光學儀表>其它光學儀表>35 紫外光刻機

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35 紫外光刻機

參考價 250000
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協議為準
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紫外光刻機

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“SIYOUYEN”概念源自于21世紀初期美國,意為科技在社會技術方面應用的*體現。擁有“*生活,*科技”之桂冠美譽。

商標持有人:鑫有研企業集團(香港)有限公司系一家專注于微電子工藝設備技術,真空技術,傳動控制技術等科技類投資型企業公司。公司投資合作伙伴有意大利MICHELLE集團與香港CIG集團。

1、微電子工藝設備方面

SIYOUYEN公司在半導體、太陽能、FPD領域濕制程設備的設計、研發、生產及銷售;同時代理半導體、太陽能、FPD領域及其它國外設備,負責在中國市場的開發、推廣、服務!

2、真空技術設備方面

SIYOUYEN公司在真空行業領域,通過引近韓國、德國*的真空技術與合作,開發出了旋片真空泵,無油真空泵,防爆真空泵等。同時與韓國WONCHANG,韓國DOOVAC,韓國NARA,韓國G&M,韓國KMC,意大利DVP,等形成戰略聯盟,致力于真空技術的推廣與銷售。

3、傳動控制技術方面

SIYOUYEN公司在傳動技術方面與國家各個重點科研領域機構合作(質檢,光學,教育,航天,海洋,石油,制藥,檢測等)共同致力于節能減排低碳環保,涉及節能環保技術、設備、產品和服務等方面

鑫有研公司在設計,制造,銷售,服務過程中嚴格按照ISO9001:2000質量管理體系執行。并且本公司擁有一批技術*、服務優良的高素質人才,和完善的售后服務體系。產品以其*的品質進入國內市場,為國家重點工程配套、環保工業、科研、信息產業等做出了較大的貢獻,獲得了廣大用戶的好評和信賴。

我們將繼續以嚴謹的態度始終堅持保證產品品質和信譽為本,用戶*的經營原則,不斷創造、創新服務于用戶。


鑫有研(SIYOUYEN)公司及其“SIYOUYEN”品牌在中國的發展歷程

2004年SIYOUYEN公司進入中國

2005年成為中國財富論壇會員單位

2005年獲得中國半導體行業協會會員單位

2006年成為中國真空學會會員單位

2007年通過ISO9001:2000質量管理體系認證

2008年獲得中國商標

2009年SIYOUYEN獲得(香港頒發)亞洲證書

2010年SIYOUYEN獲得中國質量500強

2010年SIYOUYEN獲得中國品牌500強

2010年SIYOUYEN獲得上海市誠信AAAA企業證書



光刻機,顯影機,勻膠機,光刻機,烤膠機無油真空泵

 

URE-2000系列 紫外光刻機
型號:URE-2000/35
 
簡單介紹:光刻機:(英文名:Mask ALIGENER)又名曝光機, 該型號光刻機創新采用三柔性支點實現高精度自動調平;真空接觸自動曝光;樣片升降、調平、接觸、曝光、復位實現自動化控制;采用技術積木錯位蠅眼透鏡實現高均勻照明;可連續設定分離間隙;采用雙目雙視場顯微鏡實現高對準精度。整機具有性能可靠、操作方便、自動化程度高等特點。
一.技術特征——非常適合工廠(效率高,操作傻瓜型,自動型)
和高校教學科研(可靠性好,演示方便)
采用技術——積木錯位蠅眼透鏡平滑衍射效應和實現均勻照明;
1、采用三爪和球氣浮同時找平,無論大片、小片調平精度均高;   
2、具備真空接觸曝光、硬接觸曝、壓力接觸曝光,以及接近式曝光四種功能;     
3、自動分離對準間隙和消除曝光間隙,間隙分離可達500μm;   
4、高倍率雙目雙視場顯微鏡和19英寸寬屏液晶顯示同時觀察對準過程,
并提供USB輸出;既滿足高精度對準,又可用于檢測曝光結果,且曝光結果和
方便存儲;  
5、電機機構、彈性元件和傳感器保證接觸曝光壓力合適且重復性好;    
7、曝光波長采用純凈365nm,冷光照明(曝光面能量15mW/cm ,溫度小于30度);      
8、對準完成,自動消除曝光間隙,無橫向漂移且可通過監視器觀察; 
9、快門可以單獨開啟,也可以數字設定自動倒計時曝光(設定范圍0.1s-9999.9s);     
10、采用350W進口(德國)直流汞燈,可調節光的能量密度;   
11、汞燈具有高亮度和“待機”兩種方式,即曝光時采用高亮度照明,而不曝光
時采用低亮度的“待機”,從而延長了汞燈壽命。      
12、設備外形美觀精制,性能非常可靠;
13、上下片、版十分方便,自動化程度很高,操作簡便。

二.技術參數  
1、曝光面積:100mm×100mm(可升級6英寸) 
2、分辨力:0.8-1µm(膠厚2mm的正膠)     
3、對準精度:
±0.8µm
4
、掩模樣片整體運動范圍:X:6mm;Y:6mm
5、掩模尺寸:2.5寸、3寸、4寸、5寸
6、樣片尺寸直徑
Ф15mm--Ф100mm可適應非標準片或碎片)   
7、厚度0.1mm--6mm(可擴展為15mm)
8、照明均勻性:±3%(
Ф100mm范圍)
9、掩模相對于樣片運動行程:  X:±5mm;  Y:±5mm; 
θ: ±6
10、汞燈功率:350W(直流) 
11、曝光波長:365nm(進口汞燈)
12、曝光能量密度:15mW/cm 可以根據需要增強或調弱(420nm以上波長小于0.1mW/cm )
13、曝光方式:定時(到計時方式0.1s—9999.9s)
 
應用領域 
集成電路芯片、電子封裝、微電子機械系統、微光學元件、紅外探測器生物電泳芯片、激光二極管光刻、光柵光刻,波導陣列光刻、液晶顯示聲表器件、平板顯示器、大尺寸光柵、碼盤刻劃等


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