用途：

　　適用于工礦企業(yè)、科研單位、大專院校實(shí)驗(yàn)室等。在各種氣氛下作化學(xué)分析、物理測(cè)定、已廣泛應(yīng)用于粉末冶金、陶瓷金屬化、熒光粉、電池材料、電子陶瓷、化工原料、納米材料等產(chǎn)品的研究及小批量生產(chǎn)。

1、1300℃、1400℃是硅碳棒加熱，設(shè)置在兩側(cè)或者三側(cè)（根據(jù)爐膛大小），1600℃、1700℃是硅鉬棒設(shè)置在爐膛內(nèi)的兩側(cè)，特殊的絕熱設(shè)計(jì)，爐膛可以更換。

2、控制方式：可控硅控制， PID參數(shù)自整定功能，手動(dòng)/自動(dòng)無干擾切換功能，超溫報(bào)警功能，具有溫度補(bǔ)償和溫度校正功能， 30段可編程控制（1600℃、1700℃50段可編程控制）。

3、顯示精度：±1℃,，沖溫直小于±3℃，升溫速度,10-30℃/分鐘自由設(shè)定

4、控溫儀表具有密碼功能，設(shè)定參數(shù)密碼控制。多安全防護(hù)設(shè)計(jì)，安全性能好，使用壽命長。

5、普通真空爐真空度為-0.098MPa，可選擇高真空配置，高真空爐體結(jié)構(gòu)，高真空機(jī)組，真空度6.67*10-1Pa.

6、氣路系統(tǒng)配有流量計(jì)、減壓閥、截止閥，設(shè)備采用爐殼整體密封，爐口用硅橡膠密封并加水冷。 

7、外形設(shè)計(jì)，滿門結(jié)構(gòu)，美觀大方。