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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>化工機械設(shè)備>其它設(shè)備>其它化工機械設(shè)備>EMS550 離子濺射鍍膜儀

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EMS550 離子濺射鍍膜儀

參考價 11
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準

聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!


      桑戈國際貿(mào)易(上海)有限公司是一家銷售國內(nèi)外生化試劑、實驗耗材,并向客戶提供技術(shù)支持服務(wù)的生物科技公司。公司秉承“以客戶為中心、視質(zhì)量為生命、以信譽求發(fā)展”的發(fā)展理念,在客戶的大力支持和公司員工的不懈努力下取得了快速的成長。公司努力將產(chǎn)品及時介紹給廣大客戶。"以信譽求發(fā)展"與廣大客戶建立信任關(guān)系,與科研工作者一起為生物技術(shù)而努力。

桑戈公司代理20多家歐美生物技術(shù)公司產(chǎn)品,銷售的實驗儀器、消耗品、分子生化試劑、免疫試劑和細胞培養(yǎng)試劑等,應(yīng)用于生命科學基礎(chǔ)研究、開發(fā)應(yīng)用、制藥、疾病診斷與控制、人口與健康、生物技術(shù)等諸多領(lǐng)域。公司客戶遍布大學、研究所、醫(yī)院、衛(wèi)生防疫、商品檢驗檢疫、制藥公司、生物技術(shù)公司和食品工業(yè)等單位。公司不但擁有一批掌握現(xiàn)代科技的市場人員,還有一支訓練有素的技術(shù)支持隊伍。公司在美國還有顧問團隊,顧問團隊由美國各大學從事生物醫(yī)學研究的博士后,博士和技術(shù)人員組成。隨時為您提供技術(shù)咨詢、及售后服務(wù)。

 

 

 

 

 

 

 

ATCC菌種、質(zhì)控菌株、標準菌株、微生物菌種、CMCC菌株

應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),石油

離子濺射鍍膜儀

    什么是離子濺射鍍膜?在陽極與陰極之間使用合適的氣體(常用的是氬氣)和電壓,當出現(xiàn)輝光放電時,陰極材料在氣體離子的轟擊下將侵蝕目標材料,其結(jié)果是濺射出來的原子(陰極材料)將在樣本(通常樣本固定于陽極上)表面形成一層薄膜,均勻分布在樣本的表面,這個過程就叫離子濺射鍍膜。

    陰極材料通常使用金,習慣稱之為金靶,故離子濺射鍍膜儀常常又稱噴金儀、離子濺射鍍金儀、離子濺射噴金儀等等。

    EMS公司提供系列產(chǎn)品,型號有EMS500、EMS550、EMS575X、EMS575T、EMS650、EMS650T、EMS675、EMS3000等等,下面我們將一一列出傳品的詳細參數(shù)供大家選擇使用。

 

一、EMS550和EMS500   

    EMS 550具有旋轉(zhuǎn)樣品臺,可傾斜,適合各種樣品。參數(shù)可預(yù)設(shè),全自動控制保證獲得準確的鍍層厚度。 低電壓濺射、冷濺射、細顆粒等功能的使用,大大提高了工作效率。腔室直徑為165 mm(6英寸),非常方便裝載及移走樣品。 儀器裝有60mm直徑、0.1mm厚的金靶(可選)??蛇x靶材包括金/鈀,鉑/鈀和鉑。 各種功能都集中設(shè)計在儀表板上,使用方便,滿足不同學科的用戶使用要求。 濺射參數(shù)可預(yù)設(shè),包括氣體放氣針閥(此閥為電磁閥),一旦設(shè)置,就不需要再調(diào)節(jié)。濺射頭互鎖,系統(tǒng)可選配EMS250鍍碳附件。

    EMS 550本儀器為全自動操作,可控制獨立的真空泵。EMS500是EMS550的手動版本,其樣品臺不帶自動旋轉(zhuǎn)功能,其它參數(shù)與550*相同。下圖為EMS550的外觀圖片:

<strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong>

性能特征:

· 旋轉(zhuǎn)且可傾斜樣品臺

· 高質(zhì)量鍍層厚度(2nm 金膜).

準確的可重復性能

均勻沉積厚度

復合樣本固定器

· 全自動控制

低耗冷卻系統(tǒng),無需冷卻樣本及樣品臺

低壓濺射

20nm(或20埃)

微電子控制

聚碳酸脂安全殼體

 


儀器參數(shù):

儀器尺寸

450mm(W) x 350mm(D) x 175mm(H)

工作腔室

硼硅酸鹽玻璃: 165mm(Dia.) x 125mm(H)

安全罩

聚碳酸酯

重量

18Kg

靶材

60 mm 直徑 x 0.1mm 厚(金靶為標準靶材)

樣品臺

60mm(Dia.) ,靶面距在25mm-45mm之間可調(diào)

真空泵工作范圍

ATM-1x10-2 mbar

濺射電流

0-50mA

濺射鍍膜時間

0-4 minutes

沉積速率

0-25nm/分

電源配置

230 volts 50Hz (6 amp Max incl pump)

 

二、EMS575 HIGH RESOLUTION SPUTTER COATER(EMS575X和EMS575T)

    EMS-575T是一款渦輪泵雙頭高分辨率噴金儀。EMS-575T樣本放置在旋轉(zhuǎn)樣品臺上(the rotary stage),蓋好蓋子(the chamber lid),按下啟動按鈕,渦輪分子泵開始加速,5秒鐘后,機械泵開始啟動,同時十秒氣體排空程序啟動,兩個泵同時運行確保一個高真空。當渦輪泵加速,它的速度由柱狀圖來標示,到達速度的一半時,真空計扭至自動狀態(tài)。當腔內(nèi)氣體壓降為10-4 mbar,排氣開始,腔內(nèi)氣壓維持在1 x 10-2 and 1 x 10-3 mbar之間,排氣的蕞后階段,靶材按照預(yù)訂鍍膜時間開始噴鍍。鍍膜需要兩種不同金屬的,不需要關(guān)泵,繼續(xù)濺射另一種金屬。噴鍍完成后,兩個泵停止,排氣閥排氣。 

    儀器質(zhì)保期2年。模塊化的單元結(jié)構(gòu)使得儀器維護方便,摘掉問題模塊,換上無問題的模塊,儀器即可很好的運行,一點不會耽誤實驗進程。

性能特征:

· 全自動一鍵式操作,微處理器數(shù)字控制方式,可預(yù)設(shè)參數(shù)

· LCD屏實時顯示狀態(tài)參數(shù)

· 質(zhì)保期:標準保修期為一年

· 高分辨率精細鍍層(不超過0.5nm的鉻顆粒大?。?/span>

· 薄金屬鍍層,典型5nm厚

· 渦輪分子泵

· Peltier冷卻雙濺射頭,無需冷卻水

· 雙濺射頭:一次真空條件下,可順序濺射兩種不同的材料,對于需要依次噴鍍兩種金屬的樣品特別適用

· 磁控濺射靶源設(shè)計

· 旋轉(zhuǎn)機械泵為備用泵,機械泵為外部安裝式

<strong><strong><strong><strong><strong><strong><strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong></strong>

儀器參數(shù):

儀器尺寸

450mm(W) x 350mm(D) x 175mm(H)

工作腔室

硼硅酸鹽玻璃: 165mm(Dia.) x 125mm(H)

加不銹鋼底座

110mm(Dia.) x 115mm(H)

重量

42Kg

靶材

54mm(Dia.) x 0.2mm(Thick) (標準鉻靶材和金靶材)

樣品臺

60mm(Dia.) ,以60 r.p.m 旋轉(zhuǎn),一定的傾斜度

真空泵工作范圍 (Penning)

ATM to 1x10-7 mbar,鍍膜腔體極限真空度10-7 mbar

操作真空

1x10-3 mbar to 1x10-4 mbar

濺射電流

0-175mA

濺射時間

0-4 minutes

功率

1000v at 100 ma, 100 watts

沉積速率

30nm/min at 100ma

渦輪分子泵

60 litres/Second (Ultimate vacuum 1x10-8 mbar)

電源配置

230 volts 50Hz (6 amp Max incl pump)

Services

Argon ­ Nominal 4 psi

真空泵(推薦配件)

附帶真空管和油氣過濾器



三、EMS650和EMS650T

    EMS 650配套裝有直徑60mm、厚度0.1mm的金靶(用戶可以選擇其它材質(zhì)的靶材);面板式控制,蕞佳的人性化設(shè)計;濺射參數(shù)可預(yù)先設(shè)置,包括控制排氣的電磁閥(自動控制),可以獲得準確的可重復的鍍膜厚度;濺射頭互鎖,EMS 650和EMS 250鍍碳配件通用;EMS 650可控制獨立的真空泵。EMS 650T是在EMS 650基礎(chǔ)上加裝了一個功率為60L/秒的渦輪增壓泵,能夠獲得更高更潔凈的真空。

 

性能特征:

  全自動控制

  低能冷卻系統(tǒng)((功率是6W)

  低電壓濺射(100V,DC;每分鐘溫度升高不到2°C)

  鍍膜厚度準確(2nm金粒)

  準確的可重復性

  鍍膜厚度20nm或200A(掃描電鏡)

  微電子控制

  三個靶臺同時濺射

  聚碳酸脂安全外殼

產(chǎn)品參數(shù):

 

儀器尺寸:

450mm(W) x 350mm(D) x 175mm(H)

工作腔室

硼硅酸鹽玻璃: 225mm(Dia.) x 125mm(H)

重量:

24Kg

靶臺:

3 x 60mm Dia.x0.1mm 厚

旋轉(zhuǎn)樣品臺:

155mm Dia. 距離靶臺40 to 50mm可調(diào)

真空范圍:

ATM ­1x10-2 mbar

鍍膜電流范圍:

0-100mA

鍍膜速率:

0-20nm/minute

濺射鍍膜時間:

0-4 minutes

電源:

230 volts 50Hz (蕞大8 amp 包括泵)

維護:

氬氣 ­ 通常 4 psi

真空泵(推薦)

整套真空泵軟管和油氣過濾器135L/Min

 


 

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