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HH.CHP-TW-CO2細胞培養箱水套加熱

2025-06-09

產      地:
上海
所在地區:
上海上海市
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CO2細胞培養箱水套加熱技術參數

型號

HH.CHP-T

HH.CHP-01

HH.CHP-TW

HH.CHP-01W

容積

80L

160L

80L

160L

加熱方式

氣套式

水套式

控溫范圍

室溫+5~50℃

溫度分辨率

0.1℃

恒溫波動度

±0.5℃

CO2控制范圍

0~20%

Co2恢復時間

≤濃度值×1.2min

CO2控制方式

進口紅外微電腦CO2濃度探頭控制

加濕方式

自然蒸發(配水盤)

濕度范圍

大于95%RH(+37℃穩定工作時)

工作時間

1~9999分鐘或連續

功率

400W

500W

850W

1250W

工作電源

AC 220V 50Hz

工作室尺寸

400*400*500

500*500*650

400*400*500

500*500*650

外形尺寸

550*610*785

650*710*935

550*610*775

650*710*925



















CO2細胞培養箱水套加熱


按CO2培養箱的加熱系統來分,CO2培養箱可分為水套式二氧化碳培養箱和氣套式二氧化碳培養箱。兩種加熱系統均精確可靠,但是它們有著各自的優點和缺點。水套式和氣套式二氧化碳培養箱可根據箱體有無入水口和排水口來區別,例如,圖1為水套式二氧化碳培養箱,圖2為氣套式二氧化碳培養箱。
水套式二氧化碳培養箱的溫度是通過一個獨立的水套層包圍內部的箱體來維持溫度恒定的,通過電熱絲給水套內的水加熱,再通過箱內溫度傳感器來檢測溫度變化,使箱內的溫度恒定在設置溫度。由于水的比熱容很高,水套式的優點是有助于均勻散熱和避免形成冷區,以及在斷電后能夠比較好地減緩培養箱內溫度的降低。水套式因四周環水,所以溫度均勻性很好。 [3]
氣套式二氧化碳培養箱的加熱是通過遍布箱體氣套層內的加熱器直接對內箱體進行加熱的,又叫六面直接加熱,采用隔熱系統和表面散熱元件使培養箱內溫度均衡。氣套式與水套式相比,具有加熱快,溫度的恢復比水套式培養箱迅速的特點,特別有利于短期培養以及需要箱門頻繁開關的培養。箱內溫度一般設定在37℃左右。此外,氣套式設計比水套式更簡單化,無需加水、清空和清洗。


CO2細胞培養箱水套加熱二氧化碳培養箱是細胞、組織、細菌培養的一種儀器。是開展免疫學、腫瘤學、遺傳學及生物工程所的關鍵設備,廣泛應用于微生物、農業科學、藥物學的研究和生產
注意事項
1. 儀器應放置在平整的地面上,環境應清潔整齊,干燥通風;
2. 儀器使用前,各控制開關均應處于非工作狀態,調速旋鈕應置于Z小位置;
3. 不可將流入氣體壓力調至過大,以免沖破管道及損傷探測器;
4. 關好培養箱的門,以免氣體外泄,影響試驗效果;
5. 每次停機前,各控制開關均應處于非工作狀態才切斷電源;
6. 操作密碼設置需至少3人知道,以免遺忘密碼而無法開啟儀器;
7. 鋼瓶氣體需純凈達標,以免損傷儀器;
8. 保持培養箱內空氣干凈,并定期消毒;
9. 經常注意箱內蒸餾水槽中蒸餾水的量,以保持箱內相對濕度,同時避免培養液蒸發;
10. 不適用于含有易揮發性化學溶劑,低濃度氣體和低著火點氣體的物品以及有毒物品的培養。
11. 正確地使用和注意儀器的保養,使其處于良好的工作狀態,可延長儀器的使用壽命;
12. 制冷系統停止工作后,用軟布擦凈工作腔和玻璃觀察窗;
13. 儀器在連續工作期間,每三個月應做一次定期檢查;檢查是否有水滴,污物等落入電機和外露的制冷元件上;清理壓縮機,冷凝器上的灰塵和污物;檢查保險絲,控制元件及緊固螺釘;
14. 儀器經長期使用,自然磨損屬正常現象,應聯系廠家進行維修。


氣體是哺乳動物細胞培養生存必需條件之一,所需氣體主要有氧氣和二氧化碳。氧氣參與三羧酸循環,產生供給細胞生長增殖的能量和合成細胞生長所需用的各種成分。開放培養時一般把細胞置于95%空氣加5%二氧化碳混合氣體環境中。CO2既是細胞代謝產物,也是細胞所需成分,它主要與維持培養液的pH有直接關系。動物細胞多數需要微堿性環境,pH為7.2~7.4,以不超出6.8~7.6為宜。在細胞培養過程中,隨著CO2釋放量的增多,培養基會變酸,因此常在培養基中加入NaHCO3(與CO2溶于水后所形成的H2CO3構成一個緩沖對)來調節pH。NaHCO3具有釋放CO2的傾向,加入CO2可以抑制這個反應的進行。培養箱中CO2濃度應與培養液中NaHCO3濃度相平衡,如果培養箱中CO2濃度設定在5%,培養液中NaHCO3的加入量應為1.97 g/L;如果CO2濃度維持在10%,則NaHCO3的加入量應為3.95 g/L。 控制二氧化碳濃度,這就是為什么二氧化碳培養箱成為細胞或組織體外培養環境的重要原因。


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