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CIOE中國光博會熱力來襲，優尼康邀您共赴盛會！

來源：優尼康科技有限公司 2024年09月02日 10:48

本屆CIOE中國光電博覽會匯聚了來自全球超30個國家和地區的超3700家的優質參展企業，作為覆蓋光電全產業鏈的綜合型展會，覆蓋信息通信、精密光學、攝像頭技術及應用、激光及智能制造、紅外、紫外、智能傳感、新型顯示等板塊。優尼康將參展第二十五屆中國光電博覽會！

誠邀您蒞臨觀展

優尼康將攜多款膜厚儀參展

期待與您現場探討膜厚測量的種種應用！

現場還有更多趣味互動，等你贏獎品～

優尼康在深圳國際會展中心3號館

展館預覽圖

優尼康展位3B22

展位預覽

更多驚喜活動逐步解鎖中

趣味獎品？參與可得！

參展設備


F50 膜厚測量儀
F50可以非常簡單地獲得最大直徑450毫米的樣品薄膜厚度分布圖。采用r-θ 極坐標移動平臺，可以快速定位所需的測試點并且實時獲得測試厚度，大約每秒測試兩點。
相關應用：半導體制造（光刻膠、氧化物/氮化物/SOI、晶圓背面研磨）；LCD 液晶顯示器（聚酰亞胺、ITO 透明導電膜）；光學鍍膜（硬涂層、抗反射層）；MEMS 微機電系統（光刻膠、硅系膜層）。


P7 臺階儀
P-7可以對臺階高度、粗糙度、翹曲度和應力進行2D和3D測量，其掃描可達150mm而無需圖像拼接。
相關應用：薄膜/厚膜臺階；蝕刻深度量測；光阻/光刻膠臺階；柔性薄膜；表面粗糙度/平整度表征；表面曲率和輪廓分析；薄膜的2D stress量測；表面結構分析；表面的3D輪廓成像；缺陷表征和缺陷分析。


F54-XY-200 薄膜厚度測量儀
F54-XY-200配備自動化薄膜厚度繪圖系統，借助F54-XY-200先進的光譜反射系統，可以快速輕松地測量最大200 x 200mm樣品的薄膜厚度。
相關應用：半導體制造（光刻膠、氧化物/氮化物/SOI、晶圓背面研磨）；LCD 液晶顯示器（聚酰亞胺、ITO 透明導電膜）；光學鍍膜（硬涂層、抗反射層）；MEMS 微機電系統（光刻膠、硅系膜層）。


Profilm3D 白光干涉光學輪廓儀
Profilm3D 使先進的垂直干涉掃描 (WLI) 與高精度的相位干涉 (PSI) 技術。以強大的性價比實現次納米級的表面形貌研究。
相關應用：粗糙度測量;三維形貌表征;臺階高度測量


FS-1 多波長橢偏儀
Film Sense FS-1多波長橢偏儀采用壽命長 LED 光源和非移動式部件橢偏探測器，可在操作簡單的緊湊型橢偏儀中實現可靠地薄膜測量。
相關應用：二氧化硅和氮化物，高介電和低介電材料，非晶和多晶材料，硅薄膜，光刻膠。高和低指數薄膜，如 SiO2, TiO2, Ta2O5, MgF2 。TCO（如 ITO），非晶硅薄膜，有機薄膜（OLED 技術）等

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